污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
無(wú)錫市江大聯(lián)盛水處理科技有限公司
會(huì)員1.png)
無(wú)錫市江大聯(lián)盛水處理科技有限公司
暫無(wú)信息 |
經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家
商鋪產(chǎn)品：102條
所在地區(qū)：江蘇無(wú)錫市
聯(lián)系人：胡瑛 （經(jīng)理）
閱讀：39發(fā)布時(shí)間：2024-12-3
超純水設(shè)備電阻率大于18MΩ*cm或接近18.2MΩ*cm極限值(25℃)超純水，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。超純水是既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除。一般工藝很難達(dá)到水平，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處置以及后級(jí)處置四大方法，多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.2MΩ*cm25℃。單/多晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、電池(蓄電池)顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器、潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用高純水
代替了保守的離子交換水處置技術(shù)達(dá)到現(xiàn)代工業(yè)和環(huán)保的需求，EDI超純水設(shè)備從發(fā)明以來(lái)。所以當(dāng)純水設(shè)備中的EDI出現(xiàn)問(wèn)題和損壞時(shí)勢(shì)就會(huì)影響企業(yè)的正常生產(chǎn)，增加公司的運(yùn)營(yíng)本錢(qián)。
低于額定流量情況下運(yùn)行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)先發(fā)熱變形,EDI膜塊長(zhǎng)期在大電流。EDI濃水壓差增加，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。EDI膜塊臨時(shí)沒(méi)有清洗頤養(yǎng)，EDI膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增加，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，電壓上升。超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量下降。EDI系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹(shù)脂的發(fā)熱碳化，清洗無(wú)效，無(wú)法使用。EDI進(jìn)水前無(wú)保安濾器，或裝置時(shí)沒(méi)有清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增加，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無(wú)效。
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼