光催化氧化除臭設(shè)備無需惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理，光催化氧化除臭設(shè)備無任何機(jī)械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，設(shè)備在運行過程中，會瞬間產(chǎn)生大量的強(qiáng)刺激性UV光線，嚴(yán)禁人員眼睛或皮膚鐘暴露在光源中，需在有安全防護(hù)措施的情況下視察。
光催化氧化除臭設(shè)備特點：
1、性：光催化氧化除臭設(shè)備能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達(dá)99%，遠(yuǎn)超過惡臭污染物排放標(biāo)(GB14554-93)。
2、無需預(yù)處理：光催化氧化除臭設(shè)備惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，除臭設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在30%-98%、PH指在3-11之間均可正常工作。
3、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過光催化廢氣處理設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
4、運行成本低：光催化除臭設(shè)備去任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需定期檢查，本設(shè)備能耗低，(每處理廢氣風(fēng)量為1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能)，設(shè)備風(fēng)阻極低<100pa。
5、光解作用：UV-C紫外線C波段(254nm)光束輻射小顆粒分子(由氨基酸組成的蛋白質(zhì)分子，由脂肪酸組成的脂肪分子，由糖組成的淀粉分子，還有維生素分子、礦物質(zhì)分子)將油脂分子鏈切斷，改變油脂的分子結(jié)構(gòu)揮發(fā)性有機(jī)物易受UV-C的攻擊。
6、氧化作用：UV-C紫外線C波段(185nm)在工作時與空氣中的氧氣反應(yīng)生成臭氧。臭氧是一種強(qiáng)氧化劑，對氣體中的醇類、酯類、酮類、醛類、醚類、苯類等分子*氧化分解成如水蒸氣和二氧化碳等無害的化合物。臭氧和OH同有機(jī)化合物反應(yīng)并改變它們。
光催化氧化除臭設(shè)備維護(hù)時要注意的事項：
、必須認(rèn)真執(zhí)行各項規(guī)章制度
要嚴(yán)格遵守上述規(guī)程外,還應(yīng)有一套適合自己實際情況的運行管理制度,如崗位責(zé)任制度,交接班制度,檢測制度,設(shè)備維護(hù)、檢修制度,健康檢查制度,質(zhì)量檢驗制度和經(jīng)濟(jì)核算制度等.
第二、一定要嚴(yán)格遵守廢氣處理工藝技術(shù)規(guī)程、安全規(guī)程和崗位操作規(guī)程,這些規(guī)程是組織生產(chǎn)與進(jìn)行操作的基本法規(guī),是從生產(chǎn)和科研實踐中總結(jié)出來的規(guī)律性的東西.嚴(yán)格遵守這些法規(guī)是日常運行中重要的一條原則.
第三、務(wù)必要強(qiáng)調(diào)各工種的相互配合,生產(chǎn)中往往因廢氣處理設(shè)備輔助工作發(fā)生錯誤而影響生產(chǎn)的正常運行,如分析的錯誤將引起加料量和物料成分的改變;儀表的指示錯誤會欺騙操作人員,使得實際操作條件大大偏離工藝規(guī)程的要求.電器故障和設(shè)備故障也會引起生產(chǎn)的不正常.
光催化氧化除臭設(shè)備的使用范圍是很廣泛的，可以在污水處理站，垃圾場處理廠等等很多場合中使用。它因為性能好，所以具有很廣泛的使用范圍。它在運行的時候，非常穩(wěn)定，具有很高的可靠性。
