吳中區(qū)活性炭吸附設(shè)備*常州天之尚環(huán)保公司廣泛治理于工業(yè)廢氣治理、voc廢氣治理、焊接煙塵凈化、工業(yè)粉塵處理、除臭等環(huán)境污染治理工程及處理設(shè)備的研發(fā)應(yīng)用,公司以*的技術(shù)、優(yōu)秀的設(shè)計(jì)方案、精良的設(shè)備加工能力、專(zhuān)業(yè)的施工隊(duì)伍及完善的售后服務(wù)。
另外,成為這樣的處理劑的氧化鈣,可以通過(guò)將成型為粒狀的氫氧化10鈣為 了脫水而燒成而得到。在這種情況下,適當(dāng)選擇燒成溫度或者時(shí) 間, 由此還可以在一次粒子內(nèi)部殘留氫氧化鈣。
進(jìn)而,成為這樣的處理劑的氧化鈣,可以通過(guò)將氧化鈣利用水合反應(yīng) 而轉(zhuǎn)換成氫氧化鈣之后,對(duì)該氫氧化鈣進(jìn)行再燒成而得到 。這是因?yàn)?,反 復(fù)進(jìn)行鈣的氧化與氫氧化,使得在維持一次粒子結(jié)構(gòu)的情況下,利用摩爾巴體積的不同而在一次粒子的表面有效地形成微細(xì)孔。
在本設(shè)備 的廢氣的處理方法中,使由半導(dǎo)體制造裝置所排出廢氣,在 氣態(tài)下,直接與上述的廢氣處理劑以氣相方式接觸。由此,廢氣中的有害 氣體成分與廢氣處理劑表面的氫氧化鈣發(fā)生反應(yīng)而被除去。廢氣中的毒性 氣體成分為 ,例如,可以列舉B、Al、Ga、In 、Si 、Ge 、p 、A s 等,屬于20元素周期表 中的 IIlb 族、IVb族、或者 Vb 族的元素的氫氧化物及/或鹵化物等。
此時(shí)的化學(xué)反應(yīng)例如 ,如下所示 。
CF4十2Ca(OH)2→2CaF2 + C02+H20( 1) SiH4 + Ca (OH) 2 + 202→CaSi03+ 3H2 0( 2 )2s2PH 3 十 3Ca( OH)2 + 402 →Ca 3(P04 )2十6H 20( 3 )在廢氣中不含氧的情況下,在反應(yīng)式 ( 2 )、 ( 3) 中的氧,另由外部 來(lái)供氧。此時(shí)維持的優(yōu)選溫度 ( 處理溫度> 為 400 ℃以下。因?yàn)槿翕}溫度 超過(guò) 400 ℃,則處理劑分解而導(dǎo)致控基消失。
這樣,由于這些的化學(xué)反應(yīng)是發(fā)熱反應(yīng) ,因此作為優(yōu)選控制如下:在30處理時(shí)不需要加熱,反而進(jìn)行冷卻而在規(guī)定 的溫度下進(jìn)行 。
月200580003360. 6說(shuō)明書(shū)第6/ 12頁(yè)本設(shè)備的半導(dǎo)體制造裝置 ,是用于制造半導(dǎo)體裝置 、平板顯示器、太 陽(yáng)能電池、磁性體薄膜等 的裝置 ,是指利用化學(xué)氣相沉積 (CVD) 反應(yīng)制 造這些的裝置 。
本設(shè)備 的廢氣處理裝置 ,例如 ,如圖 l所示 ,由以下部分構(gòu)成:反應(yīng)5除去部1:廢氣處理劑 2,其填充在該反應(yīng)除去部 1 內(nèi),且由氧化鈣構(gòu)成: 導(dǎo)入管 3,其將需要處理的廢氣導(dǎo)入到反應(yīng)除去部 1 內(nèi):導(dǎo)出管 4,其由 反應(yīng)除去部 l 排出己除去有害氣體成分的廢氣:以及供氧管 5,其與導(dǎo)入 管 3 連接 ,向反應(yīng)除去部 l 供氧。
反應(yīng)除去部 1,由容器 11、以及堵塞該容器 11 的開(kāi)口部的蓋 12 來(lái)構(gòu)10成。容器 11,是由氧化鋁 ( alum ina)、 石英等耐蝕性材料構(gòu)成的有底圓 筒狀的部件,在其底部上形成有導(dǎo)出管 5 的開(kāi)口部,另外設(shè)有多孔板 13,以防填充在內(nèi)部的廢氣處理劑 2 漏出。
蓋 12 ,是由氧化鋁、石英等耐蝕性材料來(lái)構(gòu)成的板狀的部件,相對(duì)于 容器 11以自由裝卸的方式安裝,根據(jù)需要能夠更換填充在內(nèi)部的廢氣處15理劑 2。另外 ,在蓋 12 上形成有導(dǎo)入管 3 的開(kāi)口部 。
并且,在容器 11 內(nèi),填充有上述的粒狀的處理劑 2,但此時(shí)以使處理 劑的填充率成為 30 70 體積%的方式被填充,使得不阻礙廢氣的順暢的 流動(dòng) 。
來(lái)自半導(dǎo)體制造裝置 21 的廢氣,經(jīng)過(guò)導(dǎo)入管 3,導(dǎo)入到反應(yīng)除去部 120內(nèi),在此 ,由上述的化學(xué)反應(yīng)除去有害氣體成分 ,被凈化的廢氣由泵 22吸引而從導(dǎo)出管 4排出到系統(tǒng)外部 。
另外,在來(lái) 自半導(dǎo)體制造裝置 21 的廢氣中,在含有 s或者 P町等 的除去反應(yīng)中需要氧的有害氣體成分的情況下,從供氧管 5 將適量的氧和 廢氣共同送入反應(yīng)除去部 l內(nèi)。
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