宜興uv廢氣處理設(shè)備 光氧催化凈化器
對于低濃度大風(fēng)量的VOCs處理，目前廣泛采用了UV光解催化處理方法，影響其效率的主要因素包括光源、催化劑、溫濕度和停留時間等，解決UV光解催化處理VOCs的關(guān)鍵技術(shù)相應(yīng)地需要從光源的選擇、催化劑的優(yōu)化和設(shè)備的空間結(jié)構(gòu)改善等入手。對于凈化設(shè)備的制造也存在自動化程度低、檢測有缺失、評價不合理等問題，需要加以重視。
對于低濃度大風(fēng)量的VOCs處理，目前采用zui多的技術(shù)是UV光解催化氧化，應(yīng)用該技術(shù)處理廢氣的設(shè)備簡單、性價比高、運營和維護成本低，因此成為了中小企業(yè)廢氣處理的shou選方法。但由于當(dāng)前工業(yè)廢氣處理設(shè)備自動化程度低，工業(yè)廢氣處理設(shè)備的廢氣處理監(jiān)測也還有漏洞，效果評估都不太理想。
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宜興uv廢氣處理設(shè)備 光氧催化凈化器原理
UV光解催化凈化原理主要是由光解和光催化氧化技術(shù)組合而成。
光解技術(shù)是利用185nm短波波長紫外光對廢氣分子進(jìn)行裂解，打斷分子鏈，同時光解空氣中的水和氧氣，生成羥基自由基、臭氧等高級氧化劑氧化去除VOCs；光催化氧化技術(shù)是在設(shè)備中添加納米級活性材料，在紫外光線的作用下，產(chǎn)生更為強烈的催化降解功能。由于作為催化劑的TiO2價格低廉，來源廣泛，對紫外光吸收率較高，抗光腐蝕穩(wěn)定性和催化活性高，且沒有毒性，對很多有機物有較強的吸附作用，因而成為各類試驗研究中zui常用的光催化劑。
光催化反應(yīng)面臨的問題主要有催化劑失活、反應(yīng)動力學(xué)常數(shù)較小、不可預(yù)測的反應(yīng)機理等，同時濕度能抑制光催化速率，尤其是有機廢氣濃度較大時，這種影響更為明顯，因此限制了光催化技術(shù)在處理濕度較大的廢氣方面的應(yīng)用。由于納米材料本身對有機物具有氧化作用，納米材料與粘結(jié)劑的耐光催化性、載體的催化活性包括失活后的再生問題及膜的牢固性仍然是光催化技術(shù)的關(guān)鍵技術(shù)難題。
臭氧與甲苯在自然狀態(tài)下是不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的。臭氧協(xié)同真空紫外光對甲苯是有降解效果的。254nm的紫外光可以促進(jìn)臭氧產(chǎn)生氧自由基，從而氧化廢氣分子，臭氧在真空紫外條件下與空氣中的水蒸氣可產(chǎn)生羥基自由基，羥基自由基可氧化甲苯。
以風(fēng)量10000 m3/h，甲苯200mg /m3的廢氣為例，要實現(xiàn)60%以上降解率，所需的光解部分配置在40根（150W雙波段），光催化部分配置在40根（150W單波段紫外燈）光催化網(wǎng)3-4平米，合計總功率在12KW。未來不排除通過優(yōu)化風(fēng)道設(shè)計、提高燈管、光催化網(wǎng)性能等途徑提高單元降解效率的可能。但以目前的技術(shù)水平，12KW應(yīng)該是目前的基本配置。
在濕度合適條件下，光解配合光催化對甲苯降解率可以達(dá)到65%以上。如果只有光解，降解率zui高到40%，再增加配置反而降解率下降。如果只有光催化，降解率zui高到15%，只有光解光催化共同進(jìn)行反應(yīng)，才能到65%以上，說明光解和光催化有協(xié)同效應(yīng)。
不同的燈管排布方式
紫外燈的光功率隨距離衰減很快，因此光解部分的紫外燈不能排布太分散，否則光解空間的紫外燈光功率太低，導(dǎo)致降解效率急劇下降。當(dāng)然太密也不行，一方面溫度會太高，另一方面鎮(zhèn)流器不好放置。建議光解紫外燈間距不應(yīng)該大于10厘米，光催化部分紫外燈間距不大于10厘米，燈到光觸媒網(wǎng)的間距不大于8厘米較好。
高能離子凈化工藝
離子發(fā)生裝置發(fā)射出高能正、負(fù)離子，它與空氣中的有機揮發(fā)性氣體分子（VOC）接觸，打開VOC分子化學(xué)鍵，分解成二氧化碳和水；對硫化氫、氨具 有分解作用，分解后的物質(zhì)與空氣中塵埃粒子及固體顆粒碰撞，使顆粒荷電產(chǎn)生聚合作用，形成較大顆?？孔陨碇亓Τ两迪聛?；同時有效地破壞空氣 中細(xì)菌生存的環(huán)境，降低空氣中細(xì)菌濃度，并將其*消除，從而使氣體達(dá)到凈化的目的。
臭氣源通過臭氣收集系統(tǒng)，經(jīng)過濾去除掉顆粒、灰塵之后，進(jìn)入離子發(fā)生器箱體，在此臭氣與高能正、負(fù)離子接觸反應(yīng)，處理后的潔凈空氣經(jīng)引風(fēng)機 排入大氣。
