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全封閉高低溫循環(huán)裝置

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更新時間：2022-02-05 10:20:15瀏覽次數(shù)：89次

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杭州庚雨儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

GDZT-100-200-80 全封閉高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

詳細介紹

GDZT-100-200-80 全封閉高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-80 全封閉高低溫循環(huán)裝置性能特點
1、分三個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。
4、全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
7、液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷，節(jié)約水資源。

GDZT-100-200-80 封閉高低溫循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù)

基本參數(shù)	型號		GDZT-100-200-80
	儲液槽容積（L）		30
	加熱容積（L）		3
	加熱罐尺寸(mm)		￠90×480
	油箱尺寸(mm)		450×150×450
	使用溫度范圍（℃）		-80-200
	環(huán)境溫度（℃）		≤25℃
	環(huán)境相對濕度（℃）		≤60
	空載zui低溫度		-80℃
	電源		380V±10% 50HZ
	加熱功率（W)		12000
	制冷量（KW)	200℃	3
		10℃	18
		-10℃	12
		-20℃	7.3
		-30℃	4.5
		-40℃	3
		-60℃	2.5
		-80℃	1.0
	儀表控溫范圍		-100℃-400℃
	導熱介質(zhì)溫控精度（℃）		±0.5
	反應物料溫控精度（℃）		±1
	傳感器		PT100
	介質(zhì) 粘度		500C.S.T
	循環(huán)泵功率（w）		280
	揚程（m)		15
	流量（L/min）		90
	壓力（Mpa）		4

典型應用
1、化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。