反滲透水處理設(shè)備（膜分離）技術(shù)的應(yīng)用使反滲透超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器得到了一次進步。近年來開始在國外推廣應(yīng)用的EDI（電去離子）技術(shù)，則是超純水制造技術(shù)的一次革命，從此進入了一個無需再生化學品，而能生產(chǎn)出高達18MΩ·CM的超純水，用于半導體、集成電路等行業(yè)。國家經(jīng)委也已將RO + EDI 成套技術(shù)的應(yīng)用列入國家重點推廣范圍，對使用的企業(yè)給以政策上的優(yōu)惠.
公司研制的反滲透裝置是采用RO技術(shù)設(shè)計，關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進口產(chǎn)品，工藝*，質(zhì)量可靠，可擴展性強，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動化運行，操作維護簡單。根據(jù)用戶要求設(shè)計制造反滲透系統(tǒng)，一般產(chǎn)水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可達75%以上，脫鹽率＞98%。產(chǎn)水量隨進水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。


我公司采用的現(xiàn)代超純水制造EDI超純水設(shè)備典型工藝流程為：
1: 預處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點
2: 預處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
3: 預處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
4: 預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點
水質(zhì)符合美國ASTM標準，電子部超純水水質(zhì)標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）

設(shè)計原則：
☆ 品質(zhì)---依照客戶生產(chǎn)所需超純水的水質(zhì)要求及生產(chǎn)特點，并考慮水源的水質(zhì)（需客戶提供水質(zhì)分析報告或源水樣品）。
☆ 可擴充性—系統(tǒng)分段設(shè)計規(guī)劃，考慮就近用水和生產(chǎn)安全需要，可依照生產(chǎn)線需求隨時擴充產(chǎn)能，客戶可分階段投資。

反滲透（膜分離）法超純水制造技術(shù):
反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。
反滲透法分離過程有如下優(yōu)點：
①不需加熱、沒有相變；
②能耗少；過程連續(xù)穩(wěn)定；
③設(shè)備體積小、操作簡單，適應(yīng)性強；
④對環(huán)境不產(chǎn)生污染。
反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導率＜10-20μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導率＜5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率高達18兆歐姆.厘米。 反滲透膜老化或受污染后，產(chǎn)水質(zhì)量會下降.

EDI超純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于:
電子工業(yè)用水　　　 集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水
制藥行業(yè)用水　　　 制藥行業(yè)用水 　大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等
化工行業(yè)工藝用水　 化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等
電力行業(yè)　　　　　 鍋爐補給水 　火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統(tǒng)等
食品工業(yè)用水　　　 飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等
海水、苦咸水淡化　 海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區(qū)等
飲用純凈水　　　　 房產(chǎn)物業(yè)、社區(qū)、企事業(yè)單位等
超聲波清洗用水　　 電腦配件、特種材料、精密機械等要求高清潔度的超聲波清洗線
電鍍行業(yè)用水　　　 清洗工件用水,槽液用水
其它工藝用水　　　 汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學品等