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EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

一、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備概述:電去離子(EDI)技術(shù)有機(jī)結(jié)合了電滲析與離換技術(shù)的優(yōu)點,以初級純水(如反滲透水)作為,可直接生產(chǎn)高純水,實現(xiàn)了去離子過程連續(xù)填充的離子交換材料自動再生

詳細(xì)介紹

一、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備概述:
電去離子(EDI)技術(shù)有機(jī)結(jié)合了電滲析與離換技術(shù)的優(yōu)點,以初級純水(如反滲透水)作為,可直接生產(chǎn)高純水,實現(xiàn)了去離子過程連續(xù)填充的離子交換材料自動再生。EDI與電滲析的不同之處在于淡室中填充了離子交換材料,因而填充材料的選擇是EDI關(guān)鍵技術(shù)之一。

二、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備工作原理:
高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且,膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長比較快的業(yè)務(wù)之一。EDI是帶有水槽的非反向電滲析(ED),這個水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

三、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備與傳統(tǒng)的離子交換制取純水技術(shù)相比,具有以下優(yōu)點:
1、不需使用化學(xué)再生藥劑,生產(chǎn)過程無任何污染,屬清潔生產(chǎn);
2、再生不需停機(jī),能連續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量穩(wěn)定的高純水(15~18M?·cm);
3、耗電少,水利用率高;
4、設(shè)備運(yùn)行安全可靠,維護(hù)簡單;運(yùn)行費(fèi)用低;占地面積小,節(jié)約場地建設(shè)費(fèi)用。


四、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備的主要作用和適用范圍:
一般的市政供水中,存在著多種鹽的溶解物,如鈉、鎂、鈣等氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等。這些鹽分以陰、陽離子的形式存在水中。采用反滲透裝置(RO 裝置)一般可脫除水中 99%的離子,水的電導(dǎo)率可降到5~20μS/cm,即電阻率達(dá)到0.05~0.2M?·cm。但水中一些溶解的氣體和其他弱電解質(zhì)(例如二氧化硅)難以被除掉,這些雜質(zhì)在某些水質(zhì)要求較高的行業(yè)須除掉。如電子工業(yè)、科研實驗室、檢驗分析行業(yè)常使用電阻率>18M?·cm的超純水,化工、發(fā)電、電鍍行業(yè)常使用電阻率>15M?·cm的高純水,精細(xì)化工和制藥行業(yè)常使用電阻率>5M?·cm的純水,食品飲料行業(yè)常使用電阻率>0.5M?·cm的初純水。EDI設(shè)備在這些對水質(zhì)要求較高的領(lǐng)域中,具有廣泛的應(yīng)用市場。在使用RO反滲透水的前提下,EDI可以直接將RO反滲透產(chǎn)水提純到純水、高純水、超純水的標(biāo)準(zhǔn)。使水的電阻率提升到 5~18M?·cm。

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