化工水處理設(shè)備-EDI設(shè)備是電滲析技術(shù)與離子交換技術(shù)的結(jié)合，通過陰離子和陽(yáng)離子交換膜的選擇性滲透與離子交換樹脂的交換作用。在直流電場(chǎng)的作用下，實(shí)現(xiàn)離子遷移，實(shí)現(xiàn)水的深度除鹽。同時(shí)，水分離產(chǎn)生的氫離子和氫氧化物離子交換樹脂。因此，無需酸堿化學(xué)再生即可連續(xù)生產(chǎn)純水。

    化工水處理設(shè)備-EDI設(shè)備工作原理：

    1.RO產(chǎn)生的水在進(jìn)入EDI模塊后均勻地分布在淡水室中。

    2.在淡水室中，未從RO膜中去除的微量離子被離子交換樹脂吸附在RO膜表面。

    3.在EDI模塊兩端的電極上加直流電，驅(qū)動(dòng)淡水室中的陰離子和陽(yáng)離子遷移到濃縮水室中的相應(yīng)電極以產(chǎn)生高純水。

    4.在電場(chǎng)的作用下，水分子大量電離成H+和OH，離子交換樹脂不斷再生。

    EDI進(jìn)水條件：

    水源：反滲透RO產(chǎn)水

    電導(dǎo)率：≤20μS/cm

    電導(dǎo)率：2-10μS/cm

    電導(dǎo)率：≤50Μs/cm

    PH值：6-8

    溫度：5℃-38℃

    進(jìn)水壓力：0.2-0.6MPa

    硬度：小于0.5ppm(以CaCO3計(jì))

    硅：小于0.5ppm(SiO2計(jì))