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TriStar II Puls 全自動(dòng)比表面積與孔隙度分析儀

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產(chǎn)品型號(hào)TriStar II plus

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更新時(shí)間:2023-03-02 08:08:12瀏覽次數(shù):264次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高性能多通道全自動(dòng)比表面積測(cè)定儀多用途/多通道/占地面積小TriStarIIplus比表面積測(cè)定儀是全自動(dòng)化且含三個(gè)分析站的比表面積和孔隙度分析儀,具有出色的性能和分析速度

詳細(xì)介紹

高性能多通道全自動(dòng)比表面積測(cè)定儀

 

多用途/多通道/占地面積小

TriStar II plus比表面積測(cè)定儀是全自動(dòng)化且含三個(gè)分析站的比表面積和孔隙度分析儀,具有出色的性能和分析速度。TriStar II plus為用戶提供高通量和高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。的耐腐蝕的不銹鋼歧管,可確保結(jié)果可靠且可重復(fù)。

 

*的硬件和軟件特點(diǎn)

  • 的耐腐蝕的不銹鋼歧管,設(shè)計(jì)用于高精度的氣體管理
  • 改進(jìn)的杜瓦瓶設(shè)計(jì),提供超出40h的連續(xù)溫度控制
  • 直觀的MicroActive軟件使用戶能夠用交互方式分析等溫線數(shù)據(jù),更快地獲得比表面與孔徑數(shù)據(jù)
  • 用戶自定義報(bào)告選項(xiàng)允許直接建模
  • 強(qiáng)大的Python腳本語(yǔ)言,允許用戶開(kāi)發(fā)TriStar II Plus軟件標(biāo)準(zhǔn)報(bào)告庫(kù)擴(kuò)展程序
  • 創(chuàng)新的儀器顯示屏,方便的儀器性能指標(biāo)和維護(hù)信息實(shí)時(shí)顯示功能
  • 能夠在碳微孔分析中同時(shí)利用CO2與N2兩個(gè)等溫線通過(guò)NLDFT理論來(lái)計(jì)算全范圍孔徑

 

比表面積測(cè)定儀數(shù)據(jù)處理的優(yōu)勢(shì)

 

  • 直接處理吸附數(shù)據(jù)。通過(guò)簡(jiǎn)單的移動(dòng)計(jì)算條,用戶立即更新文本屬性。一鍵式訪問(wèn)重要的參數(shù),讓用戶專(zhuān)注于結(jié)果,而不是參數(shù)
  • 交互式數(shù)據(jù)處理很大限度地減少使用對(duì)話框和達(dá)到計(jì)算參數(shù)的路徑。這使用戶準(zhǔn)確和有效地確定材料的比表面積和孔隙度
  • 更強(qiáng)的能包含壓汞數(shù)據(jù)的文件添加疊加刪除功能(多達(dá)25個(gè))
  • 用戶可選數(shù)據(jù)范圍,通過(guò)圖形化界面允許直接建BET、t-plot,Langmuir、 DFT理論等模型
  • 報(bào)告選項(xiàng)編輯,允許用戶自定義多達(dá)五份報(bào)告,可在屏幕上預(yù)覽
  • 每個(gè)報(bào)表都有總結(jié)、表格和圖形信息項(xiàng)
  • 低比表面積測(cè)量選項(xiàng)

  • 氪氣選件可以將比表面積測(cè)量范圍擴(kuò)展至0.001m2/g

 

 

用于TriStar II plus的MicroActive軟件

TriStar II 3plus比表面積測(cè)定儀直觀的MicroActive軟件使用戶能夠以交互方式評(píng)估等溫線數(shù)據(jù),并減少取得表面積和孔隙度結(jié)果所需的時(shí)間。不需要生成報(bào)告查看結(jié)果。可以很容易的產(chǎn)生并調(diào)整BET比表面積變換圖等計(jì)算結(jié)果。可方便快速的通過(guò)計(jì)算條選擇數(shù)據(jù)點(diǎn)。

計(jì)算所得到的數(shù)據(jù)總結(jié)可以很快的及時(shí)更新,并可在計(jì)算窗口內(nèi)進(jìn)一步細(xì)化使用的數(shù)據(jù)范圍。

Interactive selection of the BET surface area calculation range.

氣體吸附與汞侵入疊加能力

TriStar II plus軟件的MicroActive還包括一種強(qiáng)大的實(shí)用工具,它允許用戶將水銀孔徑分布與根據(jù)氣體吸附等溫線計(jì)算出的孔徑分布疊加起來(lái)。這種新的導(dǎo)入功能允許用戶在一個(gè)易于使用的應(yīng)用程序中快速查看微孔、中孔和大孔分布。

 

氧化鋁球團(tuán)BJH脫附和壓汞測(cè)井差異孔徑分布的疊加。

包括Python編程語(yǔ)言

TriStar II plus的軟件內(nèi)含Python編程語(yǔ)言。這種強(qiáng)大的腳本語(yǔ)言允許用戶在儀器的應(yīng)用中擴(kuò)展標(biāo)準(zhǔn)報(bào)告庫(kù)。

New isotherm models or calculations are easily added to the report system. The Python interface to MicroActive allows users to customize their reports and extend the utility of MicroActive.

 

TriStar II Plus System Monitor

With a single click the TriStar II Plus provides a powerful suite of information that allows the user to maintain the instrument in peak operating condition with real-time analysis views.

 

表格和圖表報(bào)告:

 

  • 單點(diǎn)或多點(diǎn)BET 比表面積

  • 總孔體積

  • Langmuir 比表面和等溫線

  • t-Plot

  • Harkins和Jura厚度層公式

  • Halsey厚度層公式

  • 碳黑STSA

  • Broekhoff-de Boer

  • Kruk-Jaroniec-Sayari

  • BJH 吸附/脫附曲線

  • 標(biāo)準(zhǔn)

  • Kruk-Jaroniec-Sayari校正

 

  • Dollimore-Heal吸附/脫附曲線

  • 中孔

  • 孔體積和面積分布

  • MP-方法

  • HK

  • Saito-Foley

  • Chang-Yang

  • DFT孔徑

  • DFT表面能

  • 總結(jié)報(bào)告

  • SPC報(bào)告

  • 確認(rèn)報(bào)告

 

雙DFT理論

雙NLDFT模型允許用戶同時(shí)應(yīng)用氮吸附和二氧化碳吸附等溫線得到材料的全范圍孔徑分布。相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)的氮吸附分析,這種方法可以將孔徑分析擴(kuò)展到更小的孔徑。這是因?yàn)镃O2可在低溫下進(jìn)入很小的微孔,而N2由于尺寸限制、鏈接問(wèn)題以及擴(kuò)散緩慢等原因進(jìn)入不了這些微孔。

這種*的NLDFT方法允許用戶用兩個(gè)等溫線確定樣品的孔徑分布。在這個(gè)例子中,二氧化碳在273K吸附等溫線(紅色)和氮在77K吸附等溫線(綠色)用于計(jì)算一個(gè)單一的孔徑分布。用戶不必剪切粘貼二氧化碳和氮?dú)馕綌?shù)據(jù),而可以使用兩個(gè)等溫線獲得一個(gè)單一的孔徑分布。

 

麥克儀器公司樣品制備系統(tǒng)可為比表面和孔隙度分析制備樣品。它使用流動(dòng)加熱或者真空加熱達(dá)到去除樣品表面例如水和其他吸附氣體的目的。

FlowPrep™060通過(guò)加熱和流動(dòng)氣體處理樣品。加熱使污染物從樣品表面脫附,惰性氣體將污染物從樣品管帶走。用戶可選擇適用于其樣品材料與應(yīng)用的理想溫度、氣體和流動(dòng)速度。針閥設(shè)計(jì)使氣體流動(dòng)緩慢,防置樣品被吹走。

Vacprep™061提供了兩種去除吸附污染物的方法。除流動(dòng)氣體外,該樣品準(zhǔn)備單元提供真空,通過(guò)加熱和疏散來(lái)準(zhǔn)備樣品。

智能的VacPrep™067是一種*的六站系統(tǒng)利用加熱抽真空法來(lái)制備樣品。每個(gè)站可以獨(dú)立操作,而不會(huì)影響其他正在處理的樣品。當(dāng)樣品完成所有脫氣步驟后,脫氣將自動(dòng)終止。

Chiller Dewar

液體循環(huán)裝置

Chiller Dewar為高表面積銅線圈構(gòu)成的封閉循環(huán)裝置,保證了杜瓦瓶與循環(huán)液體之間的高效熱交換。溫度則通過(guò)外配的循環(huán)浴來(lái)控制。

溫度范圍

-50°C至200°C*

溫度穩(wěn)定度

+/-0.01°C

ISO Controller

低溫?zé)犭娭评涠磐?/p>

麥克儀器公司的ISO Controller采用帕爾貼原理的熱電制冷技術(shù)。該裝置可控制0°C到80°C間的溫度,用于CO2、N2和其他氣體吸附分析。該裝置能夠以小的電流需求量快速制冷且有效地維持溫度。

溫度范圍

-5°C至75°C(實(shí)驗(yàn)室溫度<27°C)

冷卻功率

0°C時(shí)約為80 W,25°C時(shí)120 W

小可控分辨力

0.1℃

溫度穩(wěn)定度

±0.1℃

 

 

關(guān)鍵詞:氣體處理

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