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天津賽普瑞實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間:2023-07-23 09:16:29瀏覽次數(shù):691次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線DWS RheoLab HT高溫型擴(kuò)散波譜儀專為那些高溫領(lǐng)域的流變工作者而設(shè)計(jì),該儀器測(cè)試溫度上限可達(dá)180℃。
本款產(chǎn)品專為有高溫微流變表征的用戶設(shè)計(jì),溫度上限可達(dá)180℃。有研究人員利用傳統(tǒng)技術(shù)測(cè)試高溫流變時(shí)需要利用時(shí)-溫疊加的方法間接推算,而本產(chǎn)品允許用戶利用基于動(dòng)態(tài)光散射原理的擴(kuò)散波譜技術(shù)直接在不高于180℃的條件下直接測(cè)試樣品的微流變性能。
儀器相關(guān)配置參數(shù)如下:
※ 背散射和前散射兩種模式,提供完整的DWS解決方案,通過(guò)電子快門系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)兩種模式轉(zhuǎn)換;
※ 軟件功能強(qiáng)大,用以數(shù)據(jù)采集和分析,結(jié)合單多斑測(cè)量,用戶可自定義多腳本運(yùn)行,進(jìn)行在線微流變分析,可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變?nèi)崃?、損耗角正切和平均粒徑;
※ 自動(dòng)測(cè)量得到平均光子自由程l*和吸收長(zhǎng)度la。
※ 半導(dǎo)體激光光源,685nm,40mW,噪音小于0.5%,單模TEM00,相干長(zhǎng)度>1m,預(yù)熱時(shí)間15分鐘,激光路徑處于密閉空間,安全等級(jí)為1級(jí)(根據(jù)EN 60825-1/11.01標(biāo)準(zhǔn));
※ 兩個(gè)高檢測(cè)效率的單光子計(jì)數(shù)檢測(cè)器,量子效率>65% @ 685nm,標(biāo)準(zhǔn)死時(shí)間20ns;
※ 雙通道快速多tau/線性相關(guān)器,最小采樣時(shí)間12.5ns;
※ 測(cè)試溫度范圍(4℃ - 180℃),在實(shí)驗(yàn)室溫度不高于23℃時(shí)溫控精度+/-0.02℃,露點(diǎn)以下測(cè)量時(shí)需接干燥空氣吹掃,RheoLab提供接口;
※ 儲(chǔ)存模量G'和損耗模量G"測(cè)量范圍1Hz-10MHz,彈性范圍:1Pa-50kPa;
※ 可測(cè)試1mPas以上的低粘度樣品;
※ 樣品池支架光程范圍1-10mm,可使用標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)池,使用1mm樣品池時(shí)樣品需求量降至150μL;
※ 儀器無(wú)需光學(xué)平臺(tái),操作保養(yǎng)更加簡(jiǎn)捷。
產(chǎn)品功能:
DWS RheoLab HT高溫型擴(kuò)散波譜儀采用了背散射和前散射技術(shù),能夠在高溫條件下分析軟物質(zhì)的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
包括背散射和前向散射完整的DWS方法,采用雙池回波技術(shù)(EP 1720000 A1)的,用于非遍歷性樣品表征;利用回波技術(shù),幾分鐘內(nèi)得到儲(chǔ)存模量G'和損耗模量G",頻率上限可達(dá)10M Hz ;適用于>1%的樣品濃度(和粒徑有關(guān)),透明樣品需加入示蹤粒子;可以測(cè)量穩(wěn)定性,老化性以及凝膠點(diǎn)等。
使用背散射技術(shù)測(cè)量平均粒徑,測(cè)量范圍:50nm-1μm;適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系,能獲得多分散性樣品的平均粒徑。
相關(guān)耗材:
1mm、2mm、5mm、10mm四種規(guī)格的樣品瓶;PS示蹤粒子;二氧化硅示蹤粒子。(需訂貨)
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