小型真空懸浮熔煉爐是在真空條件下或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料進(jìn)行熔煉處理。利用電磁力使?fàn)t料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使?fàn)t料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點(diǎn)金屬及其合金的熔煉。配有真空泵系統(tǒng)，用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量，使?fàn)t罐內(nèi)有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后，通入惰性氣體至微負(fù)壓或者真空環(huán)境，熔煉工藝啟動(dòng)。

設(shè)備特點(diǎn)

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，溫度可達(dá)2500甚至以上，專門應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級(jí)分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達(dá)5.0*10-5pa。

小型真空懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：100Kw

2、容量（以鈦計(jì)）：0.5Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸：D90*50

6.控制方式：plc+模擬屏

應(yīng)用領(lǐng)域：

1·材料科研工作

2·活潑金屬、難熔金屬、稀貴金屬及合金的制備

3·用于純度要求特別高的金屬和合金的制備

4·用于成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5·對(duì)材料純度、成分精度性和均勻性要求高，期望排除雜質(zhì)和其他