芯片產(chǎn)業(yè)具備周期性，近期，基于5G大規(guī)模建設(shè)等周期性因素，以及18年工作報(bào)告把集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展放在實(shí)體經(jīng)濟(jì)發(fā)展*等持續(xù)性政策影響，芯片產(chǎn)業(yè)將迎來一波快速成長期。對于芯片水處理市場而言，首先需要關(guān)注技術(shù)要素，技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)均在提升，不僅2014年開始實(shí)施的電子級水國標(biāo)要求提高以及新增了鐵、鉛等指標(biāo)，而且準(zhǔn)備實(shí)施的新電子工業(yè)污水國標(biāo)要求同樣提高以及新增總鉻等污染物指標(biāo)，水處理企業(yè)將面臨越來越大的技術(shù)挑戰(zhàn)。

　　現(xiàn)有的電子工業(yè)用超純水設(shè)備主要用于單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水，產(chǎn)水水質(zhì)電導(dǎo)阻率<18ΜΩ.cm，且在水處理過程中有二次污染，出水水質(zhì)不穩(wěn)定。

　　萊特萊德采用反滲透技術(shù)與EDI裝置相結(jié)合的工藝制備超純水，靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。可有效達(dá)到國標(biāo)《電子級水》的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，系統(tǒng)集成度高，雙操作系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，系統(tǒng)更加穩(wěn)定性。

　　萊特萊德?lián)碛卸囗?xiàng)超純水用膜核心技術(shù)，為用戶提供一種智能、能耗低、運(yùn)行穩(wěn)定的超純水制備系統(tǒng)。設(shè)備可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水，日常保養(yǎng)維護(hù)簡單方便，設(shè)備耐用，壽命長。