當(dāng)前位置：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>磁控濺射鍍膜>>VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：金查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-05-07 13:44:52瀏覽次數(shù)：323次

聯(lián)系我時(shí)，請告知來自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類 品牌分類

  磁控濺射鍍膜

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：980條

所在地區(qū)：遼寧沈陽市

聯(lián)系人：金（經(jīng)理）

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介：VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍，一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

產(chǎn)品型號	VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
主要特點(diǎn)	1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡便。
技術(shù)參數(shù)	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數(shù)量：2 3、靶槍冷卻方式：水冷 4、極限真空度：7.4E-5pa 5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm 6、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵 7、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣） 8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計(jì)（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 9、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 10、樣品臺：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃）
產(chǎn)品規(guī)格	主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm