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X射線/XUV/EUV光柵

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更新時間:2024-02-11 18:13:51瀏覽次數(shù):128

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產(chǎn)品簡介

X射線光柵是非常精密的光學(xué)器件,對制作工藝的要求很高,尤其是制作高質(zhì)量的二維X射線光柵的難度更大,因此,高質(zhì)量的二維X射線光柵倍受相關(guān)科研人員的期待

詳細介紹


X射線光柵是非常精密的光學(xué)器件,對制作工藝的要求很高,尤其是制作高質(zhì)量的二維X射線光柵的難度更大,因此,高質(zhì)量的二維X射線光柵倍受相關(guān)科研人員的期待。


■憑借的線倍頻技術(shù),可以實現(xiàn)精確到5nm的X射線束聚焦


基于電子束光刻的制造工藝,實現(xiàn)多階閃耀光柵的設(shè)計加工,光學(xué)效率高


金剛石光學(xué)器件,輻射穩(wěn)定性高



哈特曼光柵

Hartmann wavefront sensor plates

Description

- 2D arrays of holes for wavefront sensing

- Etched into silicon using deep reactive ion etching technology

- Possibilities for high-Z materials (Au, W)



關(guān)于訂制要求,詳情可咨詢上海昊量光電設(shè)備有限公司。

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