OTF-1200X-50-DSL定向CVD生長爐系列是一款水平滑軌爐，其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動速度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要而設(shè)置（1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復(fù)滑動，同時(shí)還可以設(shè)置爐體的滑動距離。此款管式爐專門設(shè)計(jì)用CVD方法定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）。通時(shí)此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點(diǎn)較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭

OTF-1200X-50-DSL定向CVD生長爐系列

· 采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)

· 一個(gè)滑軌安裝在爐體下端，可通過一6“的觸摸屏來控制爐體移動方向、滑動速度和往返次數(shù)

· 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，并且表面涂有美國進(jìn)口高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率和延長使用壽命。

· 觸摸屏控制

· 爐體移動有手動和自動控制兩種控制狀態(tài)，在手動狀態(tài)和自動狀態(tài)下均可設(shè)定左右移動的速度，但只有在自動狀態(tài)下才能設(shè)定左右移動的次數(shù)。

· 含蜂鳴報(bào)警器，當(dāng)爐體觸碰到限位開關(guān)就會產(chǎn)生報(bào)警，并切斷控制電路，使?fàn)t體停止移動。

· 可顯示高溫爐內(nèi)的爐溫，與之通訊

?合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年，是美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院興辦的*。 公司目前主要從事氧化物晶體（A-Z）系列材料研發(fā)生產(chǎn)、濺射靶材制備和材料實(shí)驗(yàn)室及電池研發(fā)全套設(shè)備。公司從成立之初研發(fā)高溫超導(dǎo)薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起，目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界供應(yīng)商。設(shè)備研發(fā)的各種高溫爐，大尺寸高溫高壓爐，熱等靜壓爐，單晶生長爐等，用于石墨烯、高通量、蒸發(fā)鍍膜、高溫超導(dǎo)薄膜、超導(dǎo)塊材和線材的制備設(shè)備，涉及新能源材料，電池制備等成套設(shè)備，并為科研工作者提供材料研究解決方案，已經(jīng)成為企業(yè)。