日立紫外/臭氧清洗設備ZONETEM II
日立紫外清洗設備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進行清理的前處理設備，主要針對樣品表面的有機污染物，相比等離子清洗更加溫和，對樣品損傷小。
真空系統(tǒng):
無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）
3min內(nèi)達到所需真空度清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲存
清洗時間范圍為1min-30min（步幅1min）
真空系統(tǒng):
樣品桿:
3孔或5孔可選
適合于各型號透射電鏡樣品桿
有效清理區(qū)域直徑3mm
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