日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II
日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對(duì)樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備，主要針對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物，相比等離子清洗更加溫和，對(duì)樣品損傷小。
真空系統(tǒng):
無(wú)油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）
3min內(nèi)達(dá)到所需真空度清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲(chǔ)存
清洗時(shí)間范圍為1min-30min（步幅1min）
真空系統(tǒng):
樣品桿:
3孔或5孔可選
適合于各型號(hào)透射電鏡樣品桿
有效清理區(qū)域直徑3mm
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