相信大家對(duì)紫外臭氧清洗機(jī)已經(jīng)不會(huì)感到陌生了吧，它具有安全、簡(jiǎn)易的操作特點(diǎn)，配置了安全傳感器將避免臭氧環(huán)境污染和紫外線(xiàn)對(duì)操作者的暴露；并擁有良好的簡(jiǎn)易人機(jī)交互控制界面，不需要任何特殊的培訓(xùn)即可使用。隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
紫外臭氧表面清洗應(yīng)用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應(yīng)用?？梢杂糜诠杵退芰习b的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對(duì)III-V復(fù)合半導(dǎo)體晶圓片(如GaAs和InP)進(jìn)行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類(lèi)材質(zhì)表面的有機(jī)污染物清洗。
雖然表面清洗和制程方法有多種選擇，但紫外臭氧清洗顯示出優(yōu)于其他方法的幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。而傳統(tǒng)清洗方式分別為干法清洗和濕法清洗兩種方式：
1、與干法清洗對(duì)比，基板充電損傷小。在等離子體處理中，離子轟擊引起的充電損傷是一個(gè)嚴(yán)重的挑戰(zhàn)。它會(huì)導(dǎo)致器件的電氣特性退化。紫外臭氧處理提供表面處理使用氧自由基沒(méi)有等離子體放電，它是等離子體蝕刻的一種經(jīng)濟(jì)有效的替代方法，因?yàn)樗恍枰魏翁厥獾恼婵帐摇怏w或特殊設(shè)備。
2、與濕法清洗對(duì)比，沒(méi)有有害的廢水。濕式清洗需要處理化學(xué)廢水，與濕法清洗相比，紫外UV臭氧處理是一個(gè)干燥的過(guò)程。而紫外臭氧清洗機(jī)內(nèi)會(huì)配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解，不會(huì)造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過(guò)高從而產(chǎn)生危害。它也可配置成連續(xù)加載的清洗線(xiàn)，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，清除表面的顆粒。
紫外臭氧清洗機(jī)常用于掃描探測(cè)顯微鏡的樣品應(yīng)用，能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無(wú)機(jī)材料，也能用來(lái)改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過(guò)氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過(guò)程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
