光譜分析儀*的第二代全譜光譜儀技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不再受限制引進(jìn)歐洲技術(shù)、國內(nèi)生產(chǎn)CCD全譜真空型光譜儀的制造商基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用可升級為其他基體，無須變動增加硬件優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，

光譜儀光學(xué)系統(tǒng):

●光室：結(jié)構(gòu)簡潔，光室潔凈，系統(tǒng)穩(wěn)定，使用壽命長，終身免維護(hù)（建議： 恒溫真空型，是世界光譜儀行業(yè)采用的主流技術(shù)）

●光譜分析儀光室真空泄漏率：真空泵自動啟停功能，24小時真空泵啟動工作不得超過4次，每次不得超過20分鐘

●帕邢-龍格結(jié)構(gòu)，羅蘭圓光學(xué)系統(tǒng)

●羅蘭圓直徑：400mm

●有效波長范圍：130 – 800 nm

●探測器：多塊高性能線陣CCD

●光室溫度：自動控制恒溫：34℃±0.3℃

●像素分辨率：10pm

●光柵刻線：3600 l/mm

●一級光譜線色散率：1.2 nm/mm

●外部入射窗口，方便清洗及更換

●的漂移校正功能-得益于自動尋峰功能（精確度達(dá)到0.1像素）

●的紫外波段靈敏度，得益于全新改良的真空技術(shù)

數(shù)字等離子發(fā)生器:

●全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)

●高效得益于緊湊的設(shè)計(jì)和半導(dǎo)體控制技術(shù)

●高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)

●激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實(shí)際需求自定義進(jìn)行設(shè)置

●頻率100 – 1000Hz

●電流1-400A 

優(yōu)化的樣品臺:

●開放式樣品臺設(shè)計(jì)，滿足大樣品測試要求

● 4mm樣品臺分析間隙

●“噴射電極”技術(shù)輕松應(yīng)對小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品

●低氬氣消耗, 待機(jī)時:無須待機(jī)流量   

●通用可調(diào)樣品適配器

●不同基體可方便更換相應(yīng)火花臺

●優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)

計(jì)算機(jī)及讀出系統(tǒng):

●國產(chǎn)品牌電腦：聯(lián)想

數(shù)據(jù)輸出:

●數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲

●可接駁各種標(biāo)準(zhǔn)打印設(shè)備

●數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程發(fā)送傳輸

軟件系統(tǒng)

● Windows XP操作系統(tǒng)

●中文光譜儀操作軟件

●可選數(shù)據(jù)維護(hù)程序

電源：

● AC220 V /50 Hz