公司介紹：
德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù)，Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域，Microworks代表著高精度。在一個晶片內(nèi)或者從一個晶片到另一個晶片，其高縱橫比和精度可以遠低于1µm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器（選頻濾波器）、微彈簧，RF等。
產(chǎn)品介紹：
X射線光柵的制作流程
吸收光柵
（a）準(zhǔn)備光柵膠層
（b）掩膜光刻膠層在X射線下曝光
（c）形成精細的光刻膠結(jié)構(gòu)
（d）電鍍金形成X射線光柵結(jié)構(gòu)
產(chǎn)品特點：
高縱橫比結(jié)構(gòu)
極小周期
大面積X射線
標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)面積
4英寸基板： 70~90mm的直徑
6英寸基板：高達110mm(在某些情況
有限制）
更大尺寸選項
拼接多個光柵面板
在單個制作工藝上擴大結(jié)構(gòu)面積（研發(fā)）
彎曲光柵
椎束照射高縱橫比光柵，為了避免影像影響，可采用彎曲光柵，可使用特殊的夾具來運輸
主要應(yīng)用：
用于Talbot干涉儀的X射線光柵
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 | 微焦源Talbot干涉成像儀 光源：微焦X射線管 E=25keV 加速電壓：40KV 電流：120 μA G1：周期4.37 μm(Ni) G2： 周期2.4μm(Au） |
 | 在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實驗 E=17.8 keV Al 濾片 2.0 mm G1：周期 2.4 μm (Ni） G2：周期 2.4 μm (Au） |
環(huán)保在線