公司介紹:
NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發(fā)與銷售經驗。在范圍內,通過與眾多來自同步輻射科學,阿秒科學,高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作,積累了大量*的設計與制造技術,其產品在業(yè)內享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率,高聚光效率等特點,適合被各種輻射光設施使用。另外,分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準。不只是學術研究,在X射線的檢查裝置開發(fā)現(xiàn)場也被廣泛使用。XUV鏡片,XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助,對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X線領域給予客戶在研發(fā)上的幫助。
產品介紹:
世界上只有恩梯梯技術公司生產基于SiC膜的 FZP
優(yōu)點:
恩梯梯技術公司的由SiC膜和Ta吸收體圖案組成的菲涅耳波帶板(FZP)具有出色的高耐X射線輻射性、高分辨率和高對比度。
只有恩梯梯技術公司提供基于SiC膜的菲涅耳波帶板(FZP)具有出色的高耐X射線輻射性。恩梯梯技術公司的FZP由干法蝕刻的Ta組成。吸收體圖案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地應用于X射線顯微鏡、X射線微光束輻射和X射線成像。
另外,還提供用于軟X射線和極紫外(EUV、XUV)領域的Ta圖案/SiN膜型FZP和Au板圖案/SiN 膜型FZP。并提供臺階式(基諾全息照片)FZP。
特點:
能用于X射線顯微鏡、EUV顯微鏡、X射線微光束輻射和同步加速器輻射光束監(jiān)視等各種X射線應用。
出色的高耐X射線輻射性
最小區(qū)域寬度達25納米
可定制FZP
菲涅耳波帶板(FZP)的X射線吸收體圖案
可按要求定制設計FZP,滿足用戶的特殊X射線能量、光學設置和聚焦、圖像性能。如果本公司的標準產品商品目錄中沒有所需的產品,請聯(lián)系我們。
(φ2.5mm)(光學顯微鏡)
(SEM)
菲涅耳波帶板(FZP)的結構
臺階(基諾全息照片)式
最小區(qū)域寬度 | 25納米 |
直徑 | 5毫米 |
膜材料 | SiN, SiC |
膜厚度 | 0.2至2微米 |
吸收體材料 | Ta |
吸收體厚度 | 0.1至2微米 |
Si基板形狀 | 10平方毫米 |
Si基板厚度 | 1毫米 |
※我們可與用戶商討不同需求。
帶規(guī)格的標準產品列表
型號 | 寬高 比 | 膜 材料 | 膜 厚度 (微米) | ΔRn (納米) | D (微米) | N | Tm (納米) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
FZP-S38/84 | 4.2 | SiN | 0.15 | 38 | 84 | 550 | 160 |
FZP-S50/80 | 5 | SiN | 0.2 | 50 | 80 | 400 | 250 |
FZP-S40/155 | 5 | SiN | 2 | 40 | 155 | 970 | 200 |
FZP-S50/330 | 8 | SiN | 1 | 50 | 330 | 1,650 | 400 |
FZP-S86/416 | 8 | SiN | 2 | 86 | 416 | 1,200 | 700 |
FZP-100/155 | 8 | SiN | 2 | 100 | 155 | 388 | 800 |
FZP-173/208 | 5.8 | SiN | 2 | 173 | 208 | 300 | 1,000 |
FZP-200/206 | 8 | SiN | 2 | 200 | 206 | 255 | 1,600 |
FZP-C234/2500 | 0.6 | SiC | 0.2 | 234 | 2,500 | 2,670 | 150 |
※規(guī)格可能會變更,恕不預先通告。
Rn:最外區(qū)域寬度
D:直徑
N:全區(qū)域
Tm:Ta厚度
標準交付周期:12個星期
產品示例
| |
菲涅耳波帶板(FZP)直徑:250微米,Ta厚度:125納米,最外區(qū)域寬度:25納米,膜:SiC 2.0微米 | |
| |
菲涅耳波帶板(FZP)直徑:100微米,Ta厚度:2.5微米,最外區(qū)域寬度:250納米,膜:SiN 2.0微米 | |
| |
菲涅耳波帶板(FZP)直徑:100微米,Ta厚度:4.0微米,最外區(qū)域寬度:400納米,膜:SiC 2.0微米 | |
菲涅耳波帶板(FZP)中間區(qū)域的SEM 圖:臺階(基諾全息照片)式菲涅耳波帶板(FZP)、Ta圖案 |