技術應用鏈接:
特點：
·便捷的觸摸屏操作界面
·專用軟件支持自動/手動操作模式可切換（自動模式下可儲存多套工藝程序），支持操作權限分級設定
·數(shù)字及圖形化工藝參數(shù)控制及實時顯示
·支持6＂/8＂/12＂ wafer的去膠清洗
·安全及異常報警功能
·多語言：法語、英語，德語，中文
用途：
·去除光刻膠
·干刻或濕刻處理前或后
·SU-8或其他環(huán)氧基樹脂
·MEMS制造中去除犧牲層
·去除光刻膠，SU-8，環(huán)氧樹脂
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規(guī)格
型號 | Nano 6＂ | Nano 8＂ | Nano12＂ | ||||
控制系統(tǒng) | 控制方式 | 全自動控制（自動/手動切換） | |||||
操作系統(tǒng) | Windows/西門子IO工控軟件 | ||||||
觸摸屏 | 3.5/7/15 | ||||||
工藝氣體氣路 | Max.10路 | ||||||
流量計 | MFC數(shù)字流量計 | ||||||
反應腔 | 腔體材質 | 高硼硅玻璃/石英可選 | |||||
內尺寸(Φ×D) | Ø 240 x D 600 mm | Ø 305 x D 400 mm | Ø 400 x D 600 mm | ||||
容積(L) | 27 | 29 | 75 | ||||
腔門（不銹鋼/鋁） | 推拉門/鉸鏈門可選，標配觀察窗 | ||||||
托盤 | 石英舟，方形石英支架可選 | ||||||
電極 | 材質 | 360度外置環(huán)繞，鋁/不銹鋼電極 | |||||
發(fā)生器
| 頻率/功率 | 13.56MHz 0-300W,0-600W,0-1000W 2.45GHz 0-850,0-1000W,0-1200W | |||||
真空壓力計（mbar) | 皮拉尼真空傳感器（0.01-9.99) | ||||||
外形尺寸WDH（mm) | 560x800x800 | 1200x800x1700 | |||||
電源 | AC400 V / 16 A | ||||||
真空泵 | 排氣速度 | ≥30m3/H | 排氣速度≥36m3/H | 排氣速度≥60m3/H | |||
真空度 | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ||||
未找到相應參數(shù)組，請于后臺屬性模板中添加
環(huán)保在線