現(xiàn)場儀器室

用于存放現(xiàn)場檢測設(shè)備和采樣設(shè)備，并在此進(jìn)行儀器設(shè)備充電和校準(zhǔn)、采樣介質(zhì)準(zhǔn)備等工作；配套設(shè)備主要有儀器柜、操作臺、插座面板等。

樣品交接室

樣品處理室

用于樣品處理，要保持通風(fēng)流暢，分為有機樣品處理室和無機樣品處理室。有機樣品處理室用于有機樣品的處理，配備實驗臺、試劑架、通風(fēng)柜、洗滌臺、器皿柜等設(shè)備；無機樣品處理室用于無機樣品的處理，配備實驗臺、試劑架、通風(fēng)柜、洗滌臺、器皿柜等設(shè)備。

理化室

主要用于進(jìn)行滴定分析和重量分析，配套裝備有帶試劑架的實驗臺、通風(fēng)柜、洗滌臺、器皿柜等。

儀器分析室

主要設(shè)備包括職業(yè)衛(wèi)生工作中所需要的各種大型精密分析儀器，根據(jù)儀器對環(huán)境及安裝的需求，采用*成熟的設(shè)計方案，以適應(yīng)實驗室運行的需要。配套設(shè)備有:儀器臺（承重500kg以上）、天平臺、電腦臺、洗滌臺、萬向排氣罩及原子吸收罩（吸風(fēng)面速度0.4～0.5m/s）等；儀器分析室應(yīng)盡量遠(yuǎn)離化學(xué)實驗室，以防止酸、堿、腐蝕性氣體等對儀器的損害；室內(nèi)具備防塵、防震、防潮等措施。儀器臺與窗、墻之間要有一定距離，離墻400mm為宜，便于對儀器的調(diào)試和檢修，應(yīng)設(shè)計局部排風(fēng)。避免陽光直射在儀器上，避免影響電路系統(tǒng)正常工作的電場及磁場存在，為每臺儀器設(shè)置獨立的接地線裝置，且接地電阻值符合儀器使用要求。

輔助實驗室

主要包括天平室、高溫室、氣瓶室、試劑室、廢液室、更衣室等。天平室中分析天平是化學(xué)實驗室的常用儀器，高精度天平對環(huán)境有一定要求。天平室應(yīng)靠近化學(xué)實驗室，以方便使用，但不宜與高溫室和有較強電磁干擾的房間相鄰，以免影響天平性能。高溫室中，高溫爐和恒溫箱是常備設(shè)備，一般放置在高溫工作臺上，但特大型的恒溫箱須落地安置為宜。

氣瓶室

存有如氫氣、乙炔，助燃?xì)怏w如空氣等，這些氣瓶宜置于室外氣瓶室內(nèi)，通過氣路連接至實驗室內(nèi)。試劑室主要放置各類化學(xué)試劑，首先要按劇毒、易和一般化學(xué)試劑分類，然后再根據(jù)每種化學(xué)試劑的酸、堿、氧化還原等化學(xué)性質(zhì)分類存放于冰箱或試劑柜中。廢液室，用于廢液、廢固的收集與存儲，按規(guī)定設(shè)置收集容器，隨時分類收集、分別存儲各種有毒有害廢液、固體廢棄物等。更衣室用于存放實驗室操作和現(xiàn)場采樣人員的工作服，且常服與工作服應(yīng)分開放置。

辦公區(qū)域

主要包括工作人員辦公室、檔案室及會議室等。應(yīng)設(shè)置與所從事職業(yè)衛(wèi)生工作相適應(yīng)的工作場所，按照我國職業(yè)衛(wèi)生技術(shù)服務(wù)機構(gòu)資質(zhì)建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)，其中，應(yīng)設(shè)置獨立檔案室，且檔案室使用面積不少于40m2。

供氣系統(tǒng)

所用氣瓶必須存放于通風(fēng)、陰涼、干燥、遠(yuǎn)離火源、遠(yuǎn)離熱源處，當(dāng)實驗室需求的氣體種類大于3種，或需儲存3瓶以上的氣體時，宜設(shè)立氣瓶室，采用集中供氣系統(tǒng)。氣瓶室需配備防爆燈、防爆開關(guān)和防氣體滲漏報警裝置。

供排水系統(tǒng)

電控系統(tǒng)

實驗室電控系統(tǒng)是實驗室最基本的條件之一。在負(fù)荷方面應(yīng)有超前的考慮，以適應(yīng)日后發(fā)展的需要。應(yīng)設(shè)置總電源控制開關(guān)，當(dāng)實驗室無人時能切斷室內(nèi)電源。儀器設(shè)備開關(guān)要單獨控制，因為儀器設(shè)備在不使用時需要斷電保護(hù)。為確保防止觸電事故及儀器設(shè)備的正常運行，實驗室用電都必須接地線、漏電保護(hù)開關(guān)、過載保護(hù)開關(guān)等。