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磁控AF鍍膜機(jī)

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更新時間：2022-07-22 14:09:01瀏覽次數(shù)：501次

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湖南宇晶機(jī)器股份有限公司

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產(chǎn)品簡介

總功率：148KW尺寸：W4500×D6000×H3250mm機(jī)器重量：9(t)設(shè)備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構(gòu)件真空鍍膜加工，各系統(tǒng)單元和總體構(gòu)成滿足光學(xué)和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求，適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。The equipment is specially used for vacuum coating processing of struct......

詳細(xì)介紹

設(shè)備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構(gòu)件真空踱膜加工，各系統(tǒng)單元和總體構(gòu)成滿足光學(xué)和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求，適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。
該渡膜機(jī)鍍膜機(jī)采用立式箱體，前置室門上裝有觀察窗，箱內(nèi)安裝轉(zhuǎn)架驅(qū)動，爐內(nèi)安裝烘烤系統(tǒng)，后置排氣法蘭連接高真空泵;

1) 前級真空：由旋片泵、羅茨泵構(gòu)成;

2) 高真空：擴(kuò)散泵、超低溫冷凝水捕集泵(Polycold) , 真空室和擴(kuò)散泵冷阱;

3) 抽氣系統(tǒng)：由各級泵、管道和閥門，在系統(tǒng)的控制下完成啟動、粗抽精抽、待命和維持流程。

項目	規(guī)格
成膜系統(tǒng)	1）中頻電源旋轉(zhuǎn)陰極李生圓柱靶1, 另外預(yù)留對靶位（電源可轉(zhuǎn)換分別驅(qū)動兩套靶） 2）8舟阻抗式蒸發(fā)源2; 3）離子轟擊棒*4。
工作模式	離子清洗、加熱蒸發(fā)，石英晶體薄膜厚度控制器監(jiān)控膜厚并自動判停。
工藝流程	裝夾－抽真空－離子清洗－電子槍蒸渡－阻抗式蒸發(fā)AF- 進(jìn)氣、出爐。
功率	總功率148KW, 平均功率48KW
設(shè)備外尺寸及總重	1）主框架及控制柜，不開門 W4500× D6000× H3250 , 開門 W4500×D7300× H3250; 2）粗抽泵組及粗抽管占地：2000×1500; 3）主框架外部必要的操作和維護(hù)維護(hù)空間：水平方向外延伸 800mm; 垂直向上延伸 400mm 4）總重：9 噸