當(dāng)前位置：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>>高純度金靶材磁控濺射儀

高純度金靶材磁控濺射儀

返回列表頁(yè)

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地

在線詢(xún)價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：陳先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2024-04-28 10:19:00瀏覽次數(shù)：293次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類(lèi) 品牌分類(lèi)

  材料樣品處理

真空回流焊爐

冷阱

電解槽

小型濺射儀

小型蒸鍍儀

等離子清洗機(jī)

全部產(chǎn)品列表

暫無(wú)信息

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：582條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：陳先生（銷(xiāo)售）

詢(xún)價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)。

詳細(xì)介紹

高純度金靶材磁控濺射儀

在不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。金薄膜方阻隨著蒸發(fā)速率提高無(wú)明顯變化,而方阻均勻性變差,但在可接受的范圍內(nèi)。但蒸發(fā)速率過(guò)高會(huì)引起金屬大顆粒增多。因此,選用適合的蒸發(fā)速率對(duì)Au膜質(zhì)量有很大影響。

高純度金靶材

應(yīng)用領(lǐng)域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類(lèi)型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口