當(dāng)前位置：上海禹重實(shí)業(yè)有限公司>>表面分析儀器>>XPS光電子能譜儀>>ESCALAB XI+ X 射線光電子能譜儀

ESCALAB XI+ X 射線光電子能譜儀

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-08-13 17:01:41瀏覽次數(shù)：211次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類 品牌分類

  表面分析儀器

光學(xué)顯微鏡

俄歇電子能譜儀AES

XPS光電子能譜儀

掃描和透射電鏡

電子顯微鏡

TOF-SIMS離子質(zhì)譜

電子探針顯微鏡

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

上海禹重實(shí)業(yè)有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：120條

所在地區(qū)：

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是**研發(fā)出的一款基于ESCALAB 250Xi產(chǎn)品后，具有可擴(kuò)展功能、多種分析技術(shù)集成化的測(cè)試手段。該產(chǎn)品通過的靈活性、完備的專業(yè)配置選項(xiàng)、直觀的軟件操作以及硬件配置，帶給用戶的是*****的的實(shí)驗(yàn)結(jié)果和生產(chǎn)力。強(qiáng)大的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)提供系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理與系統(tǒng)運(yùn)行報(bào)告等一站式服務(wù)。
入圍**新品獲獎(jiǎng)理由：
***的成像探測(cè)器設(shè)計(jì)，用于定量XPI成像：電子倍增器和電阻陽極探測(cè)器的雙探測(cè)器設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成像的需求?？臻g連續(xù)的電阻陽極探測(cè)器創(chuàng)新技術(shù)，一方面使得XPI成像分辨率達(dá)1um，另一方面使得XPI成像得到數(shù)據(jù)無探測(cè)器背底特征，無需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結(jié)果。可選配的EDS探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)體相分析技術(shù)和表面分析技術(shù)的結(jié)合：新設(shè)計(jì)Xi+系統(tǒng)可選配EDS探測(cè)器與俄歇電子*結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)樣品納米尺度的體相微區(qū)元素成分分析，EDS可探測(cè)微米深度的元素組成，可以用于材料深度剖析前的元素組成預(yù)判。體相敏感的EDS技術(shù)和XPS表面分析技術(shù)的結(jié)合可更直觀地用于研究合金等的表面偏析行為。標(biāo)配的反射電子能量損失譜REELS分析技術(shù)，用于彌補(bǔ)UPS能帶分析和XPS元素分析： REELS可以探測(cè)材料的能級(jí)和帶隙結(jié)果，并可用于材料中H元素含量的定量。與UPS技術(shù)結(jié)合可了解完整的價(jià)帶導(dǎo)帶信息，并彌補(bǔ)XPS、AES等技術(shù)不能檢測(cè)H元素含量的缺陷發(fā)展的系列基于Xi+的成熟準(zhǔn)原位樣品處理、制備、反應(yīng)系統(tǒng): 基于Xi+，設(shè)計(jì)的一系列成熟的ALD、MBE樣品制備系統(tǒng)，高溫高壓催化還原反應(yīng)系統(tǒng)和樣品退火系統(tǒng)，滿足不同的科研項(xiàng)目需求。

性能特點(diǎn)

配備為提供** XPS 性能而設(shè)計(jì)的單色化X射線源，確保ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針有**的樣品測(cè)試通量。多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備，使該儀器在解決任何表面分析問題時(shí)都能游刃有余。利用*的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)，從測(cè)試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。

ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針的特點(diǎn)：

高靈敏度能譜
小面積 XPS
深度剖析能力
角分辨 XPS
標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能
標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能
標(biāo)配“樣品預(yù)處理"室
多技術(shù)分析的多功能性
多個(gè)樣品制備技術(shù)可選
全自動(dòng)無人值守式分析
多樣品分析
單色化X射線源

雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽極靶
樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm
透鏡、分析儀和檢測(cè)器

透鏡/分析器/檢測(cè)器一體化使 ESCALAB 250Xi XPS 能譜儀同時(shí)具備成像和小面積 XPS 分析能力的性
兩種類型的檢測(cè)器可以確保為每種分析提供**檢測(cè)——二維檢測(cè)器用于成像，基于通道電子倍增器的檢測(cè)器則用于需要檢測(cè)高計(jì)數(shù)率的能譜分析
透鏡配備了兩種電腦控制的光闌組件，一套視場(chǎng)光闌用于控制低至 <20 μm 的分析區(qū)域，適用于小面積分析；另一套光闌則用于控制透鏡的接收角，對(duì)于高質(zhì)量角分辨 XPS 至關(guān)重要
180° 半球型能量分析器
深度剖析

數(shù)控式 EX06 離子*是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能
提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)
多技術(shù)能力

可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測(cè)性能
使用 EX06 離子*時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）
電子*可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源
技術(shù)選項(xiàng)

非單色化 X 射線光源的XPS分析
AES（俄歇電子能譜）
UPS（紫外光電子能譜）
真空系統(tǒng)

5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室，****提高磁屏蔽效率
與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳
樣品制備

系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室
額外的制備室可選
Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

集成了測(cè)試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
允許遠(yuǎn)程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）
管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過程