捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡配備場(chǎng)發(fā)射電子槍和型內(nèi)置式能量過(guò)濾器(Omega過(guò)濾器)。利用過(guò)濾器的功能，不僅可以進(jìn)行樣品中的元素分析，還能分析化學(xué)結(jié)合狀態(tài)，從零損失像和能量過(guò)濾像中獲得感興趣的有用信息。捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子...

詳細(xì)介紹

捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡配備場(chǎng)發(fā)射電子槍和Ω型內(nèi)置式能量過(guò)濾器(Omega過(guò)濾器)。利用過(guò)濾器的功能，不僅可以進(jìn)行樣品中的元素分析，還能分析化學(xué)結(jié)合狀態(tài)，從零損失像和能量過(guò)濾像中獲得感興趣的有用信息。捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡鏡筒內(nèi)置式能量過(guò)濾器能獲取高精度的能量過(guò)濾像及電子能量損失譜，優(yōu)化設(shè)計(jì)的過(guò)濾器能提供無(wú)畸變的過(guò)濾像。

捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡電子槍、透鏡、過(guò)濾器等電子光學(xué)系統(tǒng)、測(cè)角臺(tái)、抽真空系統(tǒng)等全部由計(jì)算機(jī)控制。系統(tǒng)的穩(wěn)定性高，因此能獲得穩(wěn)定的數(shù)據(jù)。捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡采用四級(jí)中間鏡和兩級(jí)投影鏡的新成像系統(tǒng)，在很大的倍率和相機(jī)長(zhǎng)度范圍，實(shí)現(xiàn)了TEM像及衍射花樣的磁轉(zhuǎn)角補(bǔ)償（無(wú)磁轉(zhuǎn)角）。捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡新的測(cè)角臺(tái)采用了壓電陶瓷控制，方便操作原子級(jí)的視場(chǎng)搜索。

物鏡種類(lèi)^*1	分辨率（UHR）型	高分辨率（HR）型	樣品高傾斜（HT）型	樣品冷卻（CR）型	高襯度（HC）型
分辨率
點(diǎn)分辨率晶格分辨率	0.19 nm 0.1 nm	0.23 nm 0.1 nm	0.25 nm 0.1 nm	0.27 nm 0.14 nm	0.31 nm 0.14 nm
能量分辨率	0.8 eV（零損失 FWHM）
加速電壓	160 kV，200 kV^*2
電子槍
發(fā)射體	ZrO/W(100) 肖特基式
亮度	≧4×10⁸ A／cm²・ sr
真空度	×10^-8 Pa 級(jí)
探針電流	探針直徑為１ nm ，在0.5 nA以上
穩(wěn)定度
加速電壓	≦1×10^-6／min
物鏡電流	≦1×10^-6／min
過(guò)濾器電流	≦1×10^-6／min
物鏡
焦距	1.9 mm	2.3 mm	2.7 mm	2.8 mm	3.9 mm
球差系數(shù)	0.5 mm	1.0 mm	1.4 mm	2.0 mm	3.3 mm
色差系數(shù)	1.1 mm	1.4 mm	1.8 mm	2.1 mm	3.0 mm
最小焦距步長(zhǎng)	1.0 nm	1.4 nm	1.8 nm	2.0 nm	5.2 nm
束斑尺寸
TEM 模式	2 ～ 5 nm				７～30 nm
EDS 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm	-	4 ～20 nm
NBD 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm	-	-
CBD 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm		-
電子束衍射
衍射角(2α)	1.5 to 20 mrad 以上				-
取出角	±10 °				-
倍率
MAG 模式	×2,000 ～ 1,500,000	×2,000 ～ 1,200,000	×1,500 ～ 1,000,000		×1,200 ～ 600,000
LOW MAG 模式	×50 to1,500
SA MAG 模式	×10,000 ～ 800,000	×8,000 ～ 600,000	×8,000 ～500,000		×5,000 to 400,000
能量過(guò)濾像有效視場(chǎng)大小	選擇10eV時(shí)，最終像平面（底片)上直徑為80mm 選擇2eV時(shí)，最終像平面(底片)上直徑為25mm
相機(jī)長(zhǎng)度
選區(qū)電子衍射	150 ～ 1,500mm	200 ～ 2,000 mm		250 ～ 2,500 mm	300 ～ 3,000 mm
EELS 散射
狹縫上	1.2 μm／eV, 200 kV
最終像平面	50 ～ 300 μm／eV, 200 kV
樣品室
移動(dòng)量(XY / Z)	2mm／0.2mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm
傾斜角(X / Y)^*3	±25°／±25°	±35°／±30°	±42°／±30°	±15°／±10°	±38°／±30°
傾斜角(X)^*4	±25°	±80°	±80°	±80°	±80°
EDS^*5
固體角^*6	0.13 sr			-	0.09 sr
取出角	25°			-	20°