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太倉希德機械科技有限公司
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研磨分散機定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
一、產品名稱概述：研磨分散機,注射液分散機,軟膏分散機,超高速分散機
二、的簡介
是一種用來***各種皮膚病或減輕口瘍帶來不適的合成皮質類固醇。它是更有效的去炎松，大約是強的松的八倍 。為A的醋酸酯衍生物。是中效糖皮質激素。作用與相似，具有***、抗瘙癢和收縮血管等作用，水鈉潴留作用微弱，其中***作用較強而持久。
三、的細化
注射液、軟膏等產品，想要獲得好的藥效，需要對粉體進行充分的細化，保證藥效的充分發(fā)揮。一般粉體原始粒徑為100μm左右，加入液體介質后，采用XMD2000系列高速剪切研磨分散機，處理后，粒徑D90<2μm，并且體系分散均勻，效果高。xmd2000系列超高速研磨分散機轉速可達18000rpm，線速度50m>
四、SID分散機特點
1、太倉希德研磨式分散機，“膠體磨+分散機”的結構，一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開，第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。
2、粉體分散細化，所以需要強大的作用對其進行分散，傳統分散設備轉速一般不足3000rpm，難以分散。而SGN研磨分散機轉速高達18000rpm，剪切速率高，可以充分研磨細化。
3、SID研磨分散機采用管線式分體式結構，物料從進口進入設備工作腔中，進行處理，然后再從出口打出，物料***得的剪切細化分散，產品更均勻穩(wěn)定。另外可以實現在線式生產，滿足大工業(yè)化生要求。
五、研磨分散機用于制藥行業(yè)的優(yōu)勢
1、污染是制藥過程很大的風險因素，對于設備良好的清潔可以有效的防止污染的發(fā)生。XMD2000從設計上注重衛(wèi)生要求，采用設計，便于清洗，對表面進行高質量處理，防止其對制藥產生不利影響，該設備還符合CIP和SIP的清潔標準，能更好的實現在線清洗，提高工作效率，確保產品安全。
2、設備更便于生產員工進行操作，物料投入投料口后自動從出料口排出，如果存在穩(wěn)定的工藝路線，可以直接通過管線與上一工序相連接，則該設備可以實現無人操作，在生產過程中適用性。
3、設計符合制藥工業(yè)要求，同時滿足不同產品對于粒徑的要求，在制藥的分散混合工藝中應用前景很大。
六、超高速分散機選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
XMD2000/4 | 300 | 18000 | 50 | 4 | DN25/DN15 |
XMD2000/5 | 1000 | 13000 | 50 | 11 | DN40/DN32 |
XMD2000/10 | 2000 | 9000 | 50 | 22 | DN80/DN65 |
XMD2000/20 | 5000 | 2850 | 50 | 37 | DN80/DN65 |
XMD2000/30 | 8000 | 1420 | 50 | 55 | DN150/DN125 |
研磨分散機,注射液分散機,軟膏分散機,超高速分散機
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