ulvac-kiko 真空泵 低溫泵 帶式加熱器 離子濺射儀
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上海百賀儀器科技有限公司
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產(chǎn)品型號K575X/K575D
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時間:2022-10-05 12:07:37瀏覽次數(shù):204次
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英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D使用“渦輪”泵,前級為旋轉(zhuǎn)機械泵,整個抽真空過程為自動控制。真空度可調(diào)整,以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時器可設(shè)置成不同的濺射時間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶,靶面直徑為54 mm,可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷,可得到高性能、精細顆粒的涂層(無需水冷卻)。
濺射時參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣電磁閥。
K575D(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應(yīng)用時,不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
注:K575D技術(shù)規(guī)格與K575X相同,但它有雙頭。K575X具有peltier制冷,對于比較厚的沉積,通常用K575D(雙頭)單元。
英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的主要特點
1、全自動控制
2、Peltier冷卻濺射頭
3、精細鍍層(0.5nm Cr粒子)
4、可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標(biāo)準(zhǔn)配置
5、薄膜沉積(典型為5nm)
6、直徑為165mm腔室
7、可選雙濺射頭
8、可接膜厚測控儀
優(yōu)點:
● 可濺射易氧化金屬精細顆粒,如:鉻(Cr)或銥(Ir)
● 應(yīng)用范圍廣,除了可選濺射常用金屬靶材如:金銀鉑鈀銅錫鋁鎂鐵鈷鎳鉻鈦鉬鎢銥鉭等單質(zhì)純金屬靶材之外,還可選配金鈀合金靶、鉑鈀合金靶、碳靶以及ITO(氧化銦錫)靶等特殊靶材
● 易操作
● 無需水冷卻
● 高分辨率,可復(fù)制涂層
● 適應(yīng)各種樣品
● 重復(fù)膜厚沉積
● 樣品容易裝載和卸載
● 不需要打開真空即可進行順序涂層
● 沉積厚度可預(yù)設(shè)
英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的技術(shù)參數(shù)
1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
2、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
3、安全鐘罩:聚碳酸酯
4、基座:110 mm直徑 x 115mm高
5、重量:42公斤
6、靶:54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材)
7、樣品臺:50mm直徑,具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)樣品臺
8、操作真空:1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar
9、濺射電流:0-150mA
10、沉積速率:0-20nm/分
11、濺射定時:0-4 分鐘
12、渦輪分子泵:60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)
13、真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
14、電源:230伏/50Hz(包括泵電流為6安培)
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