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深圳市東信高科自動化設備有限公司
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產(chǎn)品型號TS-PL
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更新時間：2023-03-05 08:30:13瀏覽次數(shù)：235次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線產(chǎn)品介紹等離子清洗機原理及特性：由高能高活性粒子(電子、離子、自由基、光子、中性粒子)組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)
等離子清洗機原理及特性：
由高能高活性粒子( 電子、離子、自由基、光子、 中性粒子) 組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、 液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)。等離子體中的粒子活性高，很容易和固體表面發(fā)生反應。通常等離子清洗技術對于分子級別的污染物去除效果明顯，通過等離子清洗將會顯著增加物體的表面能，改善浸潤特性和粘合性。
等離子清洗屬于一種高精密的干式清洗方式，原理是在真空狀態(tài)下利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將 氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成具有高反應活性或高能量的離子，通過化學反應或物理作用對工件表面進行處理，實現(xiàn)分子水平的沾污去除（一般厚度為 3 ～ 30nm），提高表面活性。對應不同的污染物，應 采用不同的清洗工藝，達到的清洗效果。清洗原理見圖 2、圖 3、圖 4 及反應式 ：
化學清洗 : 表面反應以化學反應為主的等離子體清洗。
例 1 ：O2+e_→ 2O※+e?–
O※+ 有機物→ CO2+H2O （1）
氧等離子體通過化學反應可使非揮發(fā)性有機物變 成易揮發(fā)的 H2O 和 CO2，見圖 2。
例 2 ：H2+e_→ 2H※+e?–
H※+ 非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬 +H2O （2）
氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化 層，清潔金屬表面，見圖 3。
物理清洗 ：表面反應以物理反應為主的等離子體清洗。
例 ：Ar+e_→ Ar ++2e?–
Ar++ 沾污→揮發(fā)性沾污 （3）
Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動能， 轟擊清洗工件表面，去除微顆粒污染物，同時進行表 面能活化，見圖 4。
液體在固體材料表面上的接觸角, 是衡量該液體對材料表面潤濕性能的重要參數(shù)，若θ<90°，則固體表面是親水性的，其角越小，表示潤濕性越好；若θ>90°，則固體表面是疏水性的。
達因值的測量在印刷、涂層、覆膜、焊接等應用非常常見，可反映出材料表面容不容易結合，一般而言，達因值越大，表面與另一種材料的結合性能越佳。
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