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號:ZL.2一、凈化手套箱簡介手套箱專為研究材料科學、化學、半導體及相關行業(yè)所設計,采用德國BASF除氧材料,美國UOP高效吸水材料,手套箱內水、氧成份可長期持續(xù)保持氣體純度在1ppm以下
號:ZL.2
一、凈化手套箱簡介
手套箱專為研究材料科學、化學、半導體及相關行業(yè)所設計,采用德國BASF除氧材料,美國UOP高效吸水材料,手套箱內水、氧成份可長期持續(xù)保持氣體純度在1ppm以下。
二、凈化手套箱用途
在化學反應以及試驗樣品的處理中,有些物質對氧及水都敏感,在普通自然環(huán)境下無法進行。使用手套箱可使這類物質在相對無氧、無水的惰性氣體環(huán)境下反應和測試。 廣泛應用于:鋰離子電池及材料、半導體、薄膜制備、納米材料、催化劑、超級電容、特種燈、激光焊接、釬焊、鈦合金焊接等。
三、凈化手套箱功能
手/自動控制系統(tǒng)氣壓;
手/自動控制系統(tǒng)的凈化狀態(tài);
自動控制氣體凈化系統(tǒng)的還原過程;
自動提示、報警功能;
系統(tǒng)控制參數設置;
系統(tǒng)參數記錄;
系統(tǒng)執(zhí)行機構工況檢測。
四、凈化手套箱指標
箱體承受壓力:±3000Pa
標準情況下箱體內水含量:≤1ppm (注:標準情況為一個大氣壓,20度恒溫)
標準情況下箱體內氧含量:≤1ppm (注:標準情況為一個大氣壓,20度恒溫)
泄漏率:≤0.05Vol%/ h(以箱體內氧含量的變化值進行檢查)
● 使用氣體:
a)工作氣體:N2、Ar、He等氣體
b)控制氣體:使用中工作氣體(N2、Ar、He等)
c)還原氣體:工作氣體和氫氣(H2)的混合氣。
五、凈化手套箱參數
凈化手套箱展示
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