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透反射硅片顯微鏡BMT-300

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透反射硅片顯微鏡BMT-300一、用途:透反射式硅片檢測(cè)顯微鏡BMT-300主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀察.它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感強(qiáng),成像較清晰和寬闊,又具有長(zhǎng)工作距離,并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù),配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的金字塔的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍顯微鏡

詳細(xì)介紹

透反射硅片顯微鏡BMT-300
一、用途:
透反射式硅片檢測(cè)顯微鏡BMT-300主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀察.它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感強(qiáng),成像較清晰和寬闊,又具有長(zhǎng)工作距離,并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù), 配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍顯微鏡。硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制zui普通的儀器.


二、技術(shù)參數(shù)

1.目 鏡

類型

放大倍數(shù)

視場(chǎng)(mm)

大視野目鏡

10X

Φ16

透反射硅片顯微鏡BMT-300 2.物 鏡

類 別

放大倍數(shù)

數(shù)值孔徑(NA)

工作距離(mm)

平場(chǎng)消色差物鏡(無(wú)蓋玻片)

5X

0.12

18.3

10X

0.25

8.9

40X

0.60

3.7

60X

0.85

0.26

3.光學(xué)放大倍數(shù):50X 100X 400X 600X 系統(tǒng)參考放大倍數(shù):50X-4000X
4.載物臺(tái):尺寸 185mm*140mm 移動(dòng)范圍 75mm*50mm
5.調(diào)焦系統(tǒng):帶限位和調(diào)節(jié)松緊裝置的同軸粗微動(dòng) 微動(dòng)格值 0.002mm
6.濾色片組:轉(zhuǎn)盤式,黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
7.偏光裝置:可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
8.照明系統(tǒng):6V/20W鹵素?zé)?,亮度可調(diào);220V(50Hz)

9.防霉:*的防霉系統(tǒng)

10.成像系統(tǒng): 日本進(jìn)口專業(yè)攝像頭或500萬(wàn)高像素的數(shù)字?jǐn)z像頭

三、系統(tǒng)組成
電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-300E): 1、硅片顯微鏡 2、適配鏡 3、攝像器(CCD) 4、A/D(圖像采集) 5、驅(qū)動(dòng)軟件 6、數(shù)據(jù)線 7、計(jì)算機(jī)(選配)

四、總放大參考倍數(shù)
電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(BMT-300E):50--4000倍 (17寸顯示器為例)

五、選購(gòu)件
1.硅片測(cè)量軟件 2.目鏡: 20X 10X(帶刻度) 3.物鏡:20X 80X

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