德律TR7700 SIII在線自動(dòng)光學(xué) AOI檢測機(jī) 3D光學(xué)檢測機(jī) AOI租賃
7700 SIII 3D 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市世紀(jì)遠(yuǎn)景電子設(shè)備有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)WCS-977
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時(shí)間:2023-06-30 22:25:28瀏覽次數(shù):185次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線主要功能:用于晶圓劃片后芯片表面殘留物的清洗,避免表面沾污、微粒影響后繼封裝工藝
主要功能:用于晶圓劃片后芯片表面殘留物的清洗,避免表面沾污、微粒影響后繼封裝工藝。
應(yīng)用領(lǐng)域:芯片切割,該設(shè)備為劃片工藝后之晶圓連同繃框置于旋轉(zhuǎn)的吸盤上面,藉真空吸盤吸住晶圓。 吸盤下方為變頻馬達(dá)用于清洗、吹干及旋干時(shí)之轉(zhuǎn)動(dòng)。 利用步進(jìn)馬達(dá)轉(zhuǎn)動(dòng)二流體噴嘴及噴氣嘴,借以噴灑清洗劑及清除切屑、雜質(zhì)及吹干水份。
晶片旋轉(zhuǎn)涂膠技術(shù)
*切割過程晶片表面保護(hù)
*99%去除污染和殘留物質(zhì)
*霧化清洗和N2吹干
. 緊湊設(shè)計(jì)
. 霧化或高壓清洗
. 容易使用- 一鍵啟動(dòng)和自動(dòng)關(guān)蓋
. 直觀的操作面板
. 通過狀態(tài)指示燈和警報(bào)器進(jìn)行過程監(jiān)控
. 燈塔和蜂鳴器
. 符合苛刻的安全標(biāo)準(zhǔn)
. 環(huán)境友好
規(guī)格:
977- 200 977L - 300
產(chǎn)品尺寸 ? 200 mm ? 300 mm
清洗方式 霧化清洗/
高壓清洗 霧化清洗/
高壓清洗
可存儲(chǔ)菜單數(shù)量 8 8
工作平臺(tái)轉(zhuǎn)速范圍 200–3000 rpm 200–2500 rpm
設(shè)備尺寸 (WxDxH) 410 x 625 x 950 mm 520 x 809 x 950 mm
機(jī)器重量 100 kg 160 kg
特性:
? 霧化清洗
? 自動(dòng)關(guān)蓋
? 直觀的控制面板
? 過程監(jiān)控
? 緊湊的設(shè)計(jì)
? 堅(jiān)固,無振動(dòng)
? 環(huán)境友好
? 可選項(xiàng):
* 內(nèi)置排風(fēng)
* CO2 注入
* 客制工作卡盤
* 清潔添加劑
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