污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)IoN Wave 10E
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時(shí)間：2023-06-16 17:43:36瀏覽次數(shù)：124次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線等離子去膠機(jī)IoNWave10EIoNWave10E等離子去膠機(jī)是我們?cè)谖⒉ǖ入x子處理工藝中的新產(chǎn)品
等離子去膠機(jī) IoN Wave 10E
IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)是我們?cè)谖⒉ǖ入x子處理工藝中的新產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中，特別適用于工廠、科研院所等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E使用性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E占地面積小，安裝和維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子技術(shù)，該設(shè)備在提供光刻膠高灰化速度的同時(shí)，的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電（ESD）中。
規(guī)格參數(shù)
工作腔室
材質(zhì) 石英
尺寸 248mm直徑 x 397 mm長(zhǎng)
腔門處直徑 241mm
容積 升
工藝氣體控制 最多至6路氣體，MFC控制
基礎(chǔ)壓力 mbar (50 mTorr)
工藝壓力 – mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空時(shí)間 大約1分鐘
微波發(fā)生器
頻率 GHz
輸出功率 1200W
供給需求
電源 220V，50 Hz，單相
工藝氣體 輸入壓力1-2 Bar
壓縮空氣 4-6 Bar，流速 56 升/分鐘 （間歇式）
吹掃氣體 Bar，流速 28 升/分鐘 （間歇式）
尺寸 寬/高/深 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可選配置
推拉門
石英舟支撐桿
溫控板
1%精度的真空規(guī)
壓力控制器
指示燈柱
條形碼閱讀器
工藝氣體切換器
光譜終點(diǎn)檢測(cè)器
法拉第桶（次級(jí)等離子體）
陶瓷腔室，耐化學(xué)腐蝕密封圈
打印機(jī)
油泵或干泵
功能性：
臺(tái)式設(shè)計(jì)，占地面積小
石英腔室可容納8寸的晶圓，最多同時(shí)裝載25片6寸晶圓
使用Windows操作系統(tǒng)的工業(yè)計(jì)算機(jī)控制
符合Semi E95-1101要求的圖形用戶界面（GUI）
軟件提供了不同的用戶訪問權(quán)限：操作員、工藝編寫、維護(hù)
通過以太網(wǎng)進(jìn)行遠(yuǎn)程工藝監(jiān)測(cè)
機(jī)載診斷功能和報(bào)警記錄
工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能
液晶觸摸屏（LCD）操作面板
基于在線網(wǎng)絡(luò)的模擬、培訓(xùn)和支持程序
安裝簡(jiǎn)單快捷
典型應(yīng)用
去除光刻膠
晶圓打膠
濕法刻蝕前的晶圓清潔
去除SU-8
刻蝕鈍化層
失效分析中的器件開封
清潔和表面活化
化學(xué)微量分析中的低溫材料灰化
過濾器和濾膜的清潔
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