當前位置：深圳市科時達電子科技有限公司>>電子產(chǎn)品制造設備>>半導體設備>>德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機 Etchlab200 (可升級)

德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機 Etchlab200 (可升級)

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Etchlab200

品牌

廠商性質其他

所在地

在線詢價收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：林經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間：2023-06-16 18:28:25瀏覽次數(shù)：118次

聯(lián)系我時，請告知來自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類 品牌分類

  電子產(chǎn)品制造設備

半導體設備

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

深圳市科時達電子科技有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：420條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林經(jīng)理

詢價 給他留言

產(chǎn)品簡介

德國Sentech經(jīng)濟型反應離子刻蝕機Etchlab200(可升級)產(chǎn)品描述升級擴展性根據(jù)其模塊化設計，等離子蝕刻機Etchlab200可升級為更大的真空泵組，預真空室和更多的氣路

詳細介紹

德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機 Etchlab200 (可升級)

產(chǎn)品描述

升級擴展性

根據(jù)其模塊化設計，等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組，預真空室和更多的氣路。

低成本效益高

RIE等離子蝕刻機Etchlab 200結合平行板等離子體源設計與直接置片。

SENTECH控制軟件

該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝編輯窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載，從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設計特點。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監(jiān)測。

Etchlab 200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料，包括但不限于硅和硅化合物，化合物半導體，介質和金屬。

Etchlab 200通過*的SENTECH控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。

關鍵詞：刻蝕機真空泵激光干涉儀橢偏儀現(xiàn)場總線