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德國(guó)Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) PE-ALD

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德國(guó)Sentech等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)PE-ALDSENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn)，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺(tái)PEALD設(shè)備

詳細(xì)介紹

德國(guó)Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) PE-ALD

SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn)，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺(tái)PEALD設(shè)備。新的ALD設(shè)備應(yīng)用SENTECH橢偏儀，使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過(guò)程都能得到監(jiān)控。

SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術(shù)——超快在線橢偏儀來(lái)監(jiān)控逐層膜生長(zhǎng)。

臺(tái)PEALD設(shè)備已經(jīng)在布倫瑞克科技大學(xué)（TU Braunschweig）投入使用，用于生長(zhǎng)超高均勻性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。

在Al2O3沉積過(guò)程中，三甲基鋁（TMA）等離子產(chǎn)生的氧原子反應(yīng)，襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點(diǎn)。

下圖是ALD與PEALD的沉積結(jié)果對(duì)比