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廣州安特激光技術(shù)有限公司


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自動(dòng)化飛秒瞬態(tài)吸收光譜儀

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更新時(shí)間:2024-05-24 08:39:06瀏覽次數(shù):77次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹:Helios設(shè)計(jì)與飛秒激光放大器一起工作,采集14fs-8ns時(shí)域的瞬態(tài)吸收光譜,包括:基態(tài)漂白(GroundStateBleaching)、激發(fā)態(tài)吸收(ExcitedStateAbsorption),受激輻射(StimulatedEmission)等光譜信息

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹:

      Helios設(shè)計(jì)與飛秒激光放大器一起工作,采集14 fs - 8 ns時(shí)域的瞬態(tài)吸收光譜,包括:基態(tài)漂白 (Ground StateBleaching)、激發(fā)態(tài)吸收 (Excited State Absorption),受激輻射 (Stimulated Emission)等光譜信息。
     籍此分析單線態(tài)能級(jí)躍遷引發(fā)超快速能量轉(zhuǎn)移、電子遷移、激發(fā)態(tài)能級(jí)躍遷、熒光輻射等信息。高速智能延時(shí)線,采集14 fs - 8 ns,采集~10
6時(shí)域的3D瞬態(tài)吸收光譜,需~30 min(5min fire)。10 nJ(10 μW @1 kHz)低能量泵浦,適用于OPV/OLED/AIE等材料研究。大光譜范圍:350 - 2400 nm,標(biāo)配 450 - 800 nm。CMOS線陣列傳感器,數(shù)據(jù)采集可與1000 Hz
(可選:5,000 Hz激光器同步。可升級(jí)為漫反射(Diffused reflectance)瞬態(tài)吸收光譜儀,內(nèi)置Kubelka–Munk方程計(jì)算光吸收,漫反射與透射可以切換使用。

產(chǎn)品參數(shù):

延時(shí)分辨率

14 fs

時(shí)間分辨率*

1.4 x 激光脈沖時(shí)間

時(shí)間窗口

8 ns

適合激光頻率

任意

探測波長

450 - 800 nm

350 - 750 nm

選配:800 - 1600   nm

選配:1.6 – 2.4 µm

Vis檢測器

CMOS線陣列傳感器

像素

1024

響應(yīng)波長

200 - 1000 nm

分辨率

2 nm (50 µm 狹縫時(shí)),4 nm   (200 µm 狹縫時(shí))

光譜范圍

600 nm (通常: 350 - 950 nm)

采集速度

2400 條光譜/s,14bit
   選配:5000 條光譜/s,16bit (fire)

NIR檢測器

InGaAs線陣列傳感器 (選配)

像素

256

響應(yīng)波長

800 - 1600 nm

分辨率

5 nm (50 µm 狹縫時(shí)),13 nm   (200 µm 狹縫時(shí))

光譜范圍

800 nm (通常: 800 - 1600 nm)

采集速度

2400 條光譜/s,14bit;
   選配:5000 條光譜/s,16bit (fire)

SWIR檢測器

InGaAs線陣列傳感器 (選配)

像素

256

響應(yīng)波長

1000 - 2600 nm

分辨率

5 nm (50 µm 狹縫時(shí)),13 nm   (200 µm 狹縫時(shí))

光譜范圍

800 nm (通常: 1600 - 2400 nm)

采集速度

2400 條光譜/s,14bit

數(shù)據(jù)格式

ASCII CSV (兼容Excel)

數(shù)據(jù)采集軟件

Helios 4.x

數(shù)據(jù)分析軟件

Surface Xplorer

光學(xué)模塊體積 (長寬高)

915 X 610 X 250 mm3

電子模塊體積 (長寬高)

534 X 610 X 686 mm3

* 分辨率與飛秒激光器的脈沖半峰寬有關(guān),如果采用半峰寬為100fs的激光器,分辨率為140fs,在這里,分辨率是儀器的響應(yīng)特征IRF。

主要應(yīng)用:

1.   染料敏化光伏材料(CdSe, PbS量子點(diǎn))的超快電荷分離研究

2.   有機(jī)光電材料(OPV)的電荷分離、電子遷移

3.   鈣鈦礦光伏材料的電荷分離、電子傳遞

4.   半導(dǎo)體載流子遷移率非線性光吸收材料的激發(fā)態(tài)吸收

5.   有機(jī)發(fā)光材料(OLED)的單線態(tài)失活、系間竄越、生成三線態(tài)過程

6.   金屬配位卟啉類材料

7.   光催化過程的超快電荷轉(zhuǎn)移


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