深紫外光致發(fā)光光譜儀（Deep UV PL）

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產(chǎn)品型號(hào)Deep UV PL

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廠商性質(zhì)其他

所在地上海市

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更新時(shí)間：2024-04-20 12:12:49瀏覽次數(shù)：111次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  常規(guī)光譜/光電測(cè)試系統(tǒng)

圓二色/圓偏振光譜

熒光光譜

透射、反射、吸收光譜

光電測(cè)試系統(tǒng)

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上海良允科學(xué)儀器有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

美國(guó)PhotonSystems公司成立于1999年，一直專注于深紫外激光器、非相干深紫外光源及深紫外熒光、拉曼系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn)，得到了美國(guó)國(guó)家航空、、和美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)的政府資助

詳細(xì)介紹

美國(guó)Photon Systems公司成立于1999年，一直專注于深紫外激光器、非相干深紫外光源及深紫外熒光、拉曼系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn)，得到了美國(guó)國(guó)家航空、、和美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)的政府資助。該公司搭載248.6 nm激光器的深紫外拉曼和熒光光譜儀被選中參與2020年美國(guó)飛往火星計(jì)劃。

美國(guó)Photon Systems公司的MiniPL深紫外光致發(fā)光光譜儀采用自主研發(fā)的深紫外激光器224nm或248.6nm作為激發(fā)源，配合緊湊的光學(xué)設(shè)計(jì)，非常適合寬禁帶半導(dǎo)體材料的研究。MiniPL可被用于表征半導(dǎo)體材料摻雜水平、合成組分分析、帶隙分析等，不僅可用于科研領(lǐng)域，也可用于半導(dǎo)體LED產(chǎn)業(yè)中的品質(zhì)檢測(cè)。

主要參數(shù)及特點(diǎn)：

· 激光器：224nm (5.5 eV)或 248.6nm (5.0 eV)

· 光譜范圍：230-650nm（@224nm激發(fā)）或250-650nm（@248.6nm激發(fā)）

· 分辨率：0.7nm（@1200g/mm光柵，標(biāo)配）

0.2nm（@3600g/mm光柵，選配）

· 探測(cè)器：高靈敏度PMT

· 采集器：門閘積分平均器Boxcar

· 光譜分析軟件（LabView）：半峰寬、峰值波長(zhǎng)、副峰鑒別、背景扣除、歸一化等

· 可測(cè)量50mm直徑樣品，標(biāo)配XYZ三維手動(dòng)可調(diào)樣品臺(tái)

· 體積：15 x 18 x 36cm，重量：<8Kg

升級(jí)選項(xiàng)：

· X-Y電動(dòng)樣品臺(tái)，實(shí)現(xiàn)Mapping功能