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北京歐波同光學技術有限公司


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鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10

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更新時間:2023-09-17 09:05:15瀏覽次數(shù):204次

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產(chǎn)品簡介

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVOMA10/LS10詳細描述:品牌:卡爾·蔡司型號:EVOMA10/LS10制造商:德國卡爾蔡司公司經(jīng)銷商:歐波同有限公司免費:【品牌故事】世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年

詳細介紹

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10



詳細描述:

 品牌:卡爾·蔡司

 型號:EVO MA 10/LS 10

 制造商:德國卡爾蔡司公司

 經(jīng)銷商:歐波同有限公司

免費:



【品牌故事】 

     世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經(jīng)驗,電子光學成像技術在世界上創(chuàng)造了數(shù)個里程碑:

    -與AEG公司合作實現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949)
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM(1956)
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡,用戶利用
    -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984)
    -配用靜電電磁物鏡(Gemini技術)的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場(1993)
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡(2003)
    -推出具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設計,融合歐洲至上的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專有技術,隨著離子束技術和基于電子束的 分析技術的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內廣大用戶的信賴與認可。

    作為一家電子光學產(chǎn)品提供商,我們將為您提供完善的納米技術解決方案,并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機構,卡爾 蔡司在高質量電子光學系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻。


【總體描述】
       
EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領域,LS 10用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界的X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。

 【技術參數(shù)】
    分辨率: 3.0nm@ 30KV(SE and W)  4.0nm@ 30KV(VP with BSD) 
    加速電壓:0.2—30KV
    放大倍數(shù):7—1000000x 
    探針電流:0.5PA-5μA
    X-射線分析工作距離:8.5mm    35度接收角
    低真空壓力范圍:10—400Pa (LS10:10-3000Pa)
    工作室:310mm(φ)×220mm(h)
    5軸優(yōu)中心自動樣品臺:X=80mm  Y=100mm  Z=35mm  T=-10°- 90°R=360°

    較大試樣高度:100mm,大試樣直徑:200mm
    系統(tǒng)控制:基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
    存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

 【產(chǎn)品應用】
       
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。



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