Helios NanoLab DualBeam
一直以來(lái)，Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的電子和離子光學(xué)系統(tǒng)、配件和軟件，能夠?yàn)榧{米量級(jí)研究提供強(qiáng)大的解決方案。對(duì)于從事納米技術(shù)前沿研究的科學(xué)家，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界，為材料研究開辟新的天地。
借助價(jià)值的亞納米 SEM 成像技術(shù)、S/TEM 超薄樣本制備能力以及精確的原型設(shè)計(jì)功能，科學(xué)家能夠?qū)?Helios NanoLab 作為的研究伴侶，為未來(lái)的科技進(jìn)步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級(jí)器件。
Helios NanoLab 的材料科學(xué)應(yīng)用
在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實(shí)現(xiàn)技術(shù)進(jìn)步，在納米量級(jí)了解結(jié)構(gòu)和成分細(xì)節(jié)至關(guān)重要。Helios NanoLab 設(shè)計(jì)用來(lái)以低至亞納米量級(jí)的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測(cè)樣本最微小的細(xì)節(jié)。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備高質(zhì)量的樣本。此外，如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件，也可配備 Helios NanoLab 打造多功能原型。
產(chǎn)品型號(hào)
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Helios NanoLab G3 CX 的材料科學(xué)應(yīng)用
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Helios NanoLab G3 UC 的材料科學(xué)應(yīng)用
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Helios PFIB 材料科學(xué)應(yīng)用
Helios NanoLab 的電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 是一款靈活的平臺(tái)，既能以很高的效率制備 TEM 樣本，又能開展高性能低電壓成像以分析高級(jí)邏輯和存儲(chǔ)器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個(gè)配置，效率高，并且是面向?qū)嶒?yàn)室和近生產(chǎn)環(huán)境的低每樣本成本半導(dǎo)體分析工作流的關(guān)鍵組成部分。
產(chǎn)品型號(hào)
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Helios G4 HX 的半導(dǎo)體應(yīng)用
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Helios G4 FX 的半導(dǎo)體應(yīng)用
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Helios PFIB EFI
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Helios PFIB 電子工業(yè)應(yīng)用
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Helios NanoLab 460HP 電子工業(yè)應(yīng)用
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Helios NanoLab 460F1 電子工業(yè)應(yīng)用
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Helios NanoLab 1200AT 電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 的自然資源應(yīng)用
地質(zhì)學(xué)家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術(shù)對(duì)鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術(shù)特色，博采 FIB（聚焦離子束）銑削和 SEM（掃描電子顯微鏡）分析之長(zhǎng)。借助自動(dòng)化序列樣本銑削和成像功能，客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像，進(jìn)而開展三維容積重建。根據(jù)這些數(shù)據(jù)，客戶可以在微米至納米量級(jí)別觀測(cè)和量化孔隙網(wǎng)絡(luò)等紋理。
產(chǎn)品型號(hào)
Helios NanoLab 的生命科學(xué)應(yīng)用
要想在三維背景下了解生物事件，就必須采用專用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應(yīng)能以的分辨率呈現(xiàn)很小的細(xì)節(jié)，從而揭示出復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)的超微結(jié)構(gòu)和空間結(jié)構(gòu)。Helios NanoLab 具有的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力，還配備了高精度壓電工作臺(tái)。出色的成像能力，輔以透鏡內(nèi)和柱內(nèi)檢測(cè)器提供的高對(duì)比度檢測(cè)技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)真正的對(duì)比度。
產(chǎn)品型號(hào)
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