當前位置：上海杜美精密儀器有限公司>>美國FEI掃描電鏡>>熱場發(fā)射掃描式電子顯微鏡(SEM)>>熱場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡

熱場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Quattro

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地

在線詢價收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-04-22 12:28:57瀏覽次數(shù)：112次

聯(lián)系我時，請告知來自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類 品牌分類

  美國FEI掃描電鏡

聚焦離子束掃描電子顯微鏡

熱場發(fā)射掃描式電子顯微鏡(SEM)

鎢燈絲掃描式電子顯微鏡(SEM)

透射電子顯微鏡(TEM)

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

上海杜美精密儀器有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：34條

所在地區(qū)：

詢價 給他留言

產(chǎn)品簡介

1、升級后的新產(chǎn)品-環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)射掃描電鏡

詳細介紹

1、升級后的新產(chǎn)品-環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)射掃描電鏡。

2、齊全的配置

Quattro 場發(fā)射掃描電鏡給用戶配置了高真空的二次電子探頭，低真空的二次電子探頭，環(huán)境真空下的二次電子探頭，以及背散射電子探頭，和紅外CCD 探頭。能滿足用戶在日后工作中所有可能遇到的情況，以降低用戶對樣品制備的要求。

低真空/環(huán)境真空技術(shù)使得不導電樣品和/或含水樣品不經(jīng)導電處理即可直接成像和分析，樣品表面無電荷累積現(xiàn)象。

3、的電子光學技術(shù)成熟的肖特基場發(fā)射電子槍、固定式末級光闌、60°/45°兩級錐度極靴、大工作距離精密聚焦技術(shù)等，能對導電和不導電樣品進行EDS/EBSD 分析，在高真空模式，低真空模式，或環(huán)境真空模式。

穩(wěn)定的大束流(200 nA) 確保能譜及EBSD 分析工作的快速與準確。

4、“穿過透鏡” 壓差真空系統(tǒng)設計

普通高真空掃描電子顯微鏡的樣品室和鏡筒都處于高真空狀態(tài)，要求所分析的樣品必須是固體的導電樣品，如果樣品不是固體和導電的，需要對樣品進行處理，使樣品達到要求。然而，在研究工作中所遇到的樣品中，固體導電樣品只是很少一部分，通常我們還會遇到非導電固體樣品，表面含水、含油的固體樣品以及非固態(tài)樣品。

在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過特殊的真空系統(tǒng)設計，采用三個區(qū)域兩個不同的泵來抽真空，樣品室的真空度降低，使得不適應高真空的樣品能夠保持保持原始狀態(tài)，在掃描電子顯微鏡中進行觀察和分析。

與此同時，掃描電子顯微鏡的鏡筒部分仍然處于高真空狀態(tài)，滿足電子光學系統(tǒng)的要求。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過向樣品室充水汽，可保持含水樣品和生物樣品的原始狀態(tài)。FEI/飛利浦環(huán)境掃描電子顯微鏡的樣品室氣體壓力可在10Pa ～ 4000Pa 之間改變，達到樣品中水的平衡，或進行樣品的脫水、增濕測試。

5、二次電子探測器

在普通高真空掃描電子顯微鏡中，采用的是E‐T 二次電子探測器。這種探測器在低真空狀態(tài)下不能工作。為了能夠在樣品室低真空狀態(tài)下探測二次電子信號，FEI/飛利浦公司開發(fā)了低真空二次電子探測器GSED。

GSED 二次電子探測器的分辨率可達到< 1.4 nm ，與普通高真空電鏡的分辨率指標相同。而且，GSED 探測器克服了E‐T 探測器的缺點，可觀察發(fā)光、加熱的樣品。

6、特殊的樣品倉設計284mm 大型樣品倉，整體鑄造而成，在5軸馬達全自動驅(qū)動，給用戶雙重保證。在手動操作時, xT‐電鏡控制軟件也監(jiān)控樣品臺的運行, 保證樣品上座標的性。樣品位置和觀察條件記憶功能允許用戶將感興趣的區(qū)域的位置和電鏡條件記憶下來, 可隨時回復記憶的位置和觀察條件, 方便用戶的對比分析工作。

7、的單窗口和四窗口操作界面

同時可以顯示二次電子像，背散射像，以及他們的混合像，還有紅外CCD 實時監(jiān)控像。

這樣可以獲得的信息?？刂茀^(qū)功能使用非常人性化, 控制功能易于接近。

8、特殊的紅外CCD 設計

紅外CCD 探頭設計，不僅可以實時監(jiān)控樣品倉的內(nèi)部情況，同時可以通過這個窗口控制樣品臺的移動，還可以利用這個床空拍攝低倍照片進行導航。

9、分析型末級光闌。

在一般的低真空掃描電子顯微鏡中，在低真空狀態(tài)下，能譜分析的空間分辨率和分析精度大大降低，基本喪失了能譜分析的實用性。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，FEI/飛利浦配置了分析型末級光闌，能夠保證在低真空狀態(tài)下的能譜分析的空間分辨率和分析精度。

10、數(shù)字化掃描技術(shù)

在Quattro掃描電鏡中, FEI/ 飛利浦采用了數(shù)字化的電子束掃描技術(shù), 無論是通過Quanta xT‐控制軟件對電鏡進行操作, 還是外接的第三方分析設備, 都是基于網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)進行數(shù)字化掃描控制。例如, 如果用戶在Quanta 上安裝能譜儀系統(tǒng), 能譜儀公司只要將其為Quanta 設計的能譜探頭安裝在Quattro樣品室上, 將其為Quattro 設計的能譜分析器通過Quattro提供的網(wǎng)絡集線器進行網(wǎng)絡連接, 能譜儀就可通過Quattro的數(shù)字化掃描器來控制電子束在樣品表面的掃描。