為了滿足各種半導體器件的需要，必需對材料的電學參數(shù)進行測量，這些參數(shù)一般為電 阻率、載流子濃度、導電類型、遷移率、壽命及載流子濃度分布等。測量方法有四探針 、三探針、擴展電阻、C-V法及Hall測量等。
對于半導體材料的電阻率，一般采用四探針、三探針和擴展電阻。
四探針法是經(jīng)常采用的一種，原理簡單，數(shù)據(jù)處理簡便。測量范圍為10-3-104 防 米， 能分辨毫米級材料的均勻性，適用于測量半導體材料、異型層、外延材料及擴散層、離 子注入層的電阻率，并能夠提供一個迅速的、不破壞的、較準確的測量。
采用四探針法測量相同導電類型、低阻襯底的外延層材料的電阻率時，由于流經(jīng)材料的 電流會在低阻襯底中短路，因此得到的是襯底與外延層電阻率并聯(lián)的綜合結(jié)果。這時， 需要采用三探針法、擴展電阻法等。
三探針法是利用金屬探針與半導體材料接觸處的反向電流-電壓特性、測定擊穿時的電壓 來獲得材料電阻率的知識的。
C-V法利用PN結(jié)或肖特基勢壘在反向偏壓時的電容特性，可以獲得材料中雜質(zhì)濃度及其分布的 信息，這類測量稱為C-V測量技術(shù)。這種測量可以提供材料截面均勻性及縱向雜質(zhì)濃度分 布的信息，因此比四探針、三探針等具有更大的優(yōu)點。雖然擴展電阻也能測量縱向分布 ，但它需將樣品進行磨角。但是C-V法既可以測量同型低阻襯底上外延材料的分布，也可測量高阻襯底用異型層的外延材料的分布。
Hall測量在半導體材料測量中，霍爾效應有著廣泛的應用。用它來研究半導體材料導電過程或輸 運現(xiàn)象?？商峁┎牧系膶щ婎愋?、載流子濃度、雜質(zhì)電離能（包括深、淺能級雜質(zhì)）、 禁帶寬度、遷移率及雜質(zhì)補償度等信息。
