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磁控濺射光學鍍膜機

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更新時間：2023-03-29 11:10:01瀏覽次數(shù)：716次

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MAGNETRONSPUTTERINGOPTICALCOATINGMACHINE磁控濺射光學鍍膜機旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高

詳細介紹

  • 旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。
  • 可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產品擺放達到的利用空間。
  • 高效率真空泵組配比與精密的腔體結構使我司抽氣效率達到行業(yè)水平。
  • 匯成RF離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。
  • 可生產高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。
  • 低溫成膜，可應對各種用途。
  • 可依靠負載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質。
  • 利用自動濺射控制裝置，使濺射工藝實現(xiàn)了自動化。
  • 可選“校正板外部調節(jié)機構”。

101.jpg 102.jpg

103.jpg

AR、AF、硬質AR膜、硬質膜、裝飾膜、HR膜等。

03.jpg02.jpg水珠 鏡頭 AR+AR膜樣品圖 防指紋AF膜樣品圖

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