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廣東匯成真空科技股份有限公司
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更新時(shí)間:2023-10-19 11:29:50瀏覽次數(shù):220次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線集成了直流磁控濺射,中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù),結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。 各種膜性能的改善,能大衣合金薄膜,復(fù)合膜,多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。
五金首飾真空鍍膜機(jī)集成了直流磁控濺射,中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù),結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。 各種膜性能的改善,能大衣合金薄膜,復(fù)合膜,多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。 經(jīng)過多年專門的研發(fā)我們的工程師,通過的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng),我們開發(fā)了一套計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)使涂膜附著力密度以及復(fù)雜的一致性好,解決手工操作的復(fù)雜性,膜的顏色不一致等問題
金屬首飾真空鍍膜機(jī)特點(diǎn):
1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,擴(kuò)大在陰極表面磁場(chǎng)接近工件表面,以增加濺射原子的電離率。 它保留了磁控濺射的細(xì)膩和光澤度增加。
2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠,能夠根據(jù)工作電流30A時(shí),優(yōu)化陰極和磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)涂層,涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散,再加上離子束輔助功能沉積。
應(yīng)用行業(yè):設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時(shí)鐘,IPS手表和鐘表,的IP,手機(jī)外殼,五金,潔具,刀具,防摩擦的工具,模具和模具等,它可以制備TiN,TiCN涂層,氮化TIALN,TiNbu,TiCrN,氮化鋯,各類鉆石薄膜(DLC)。
真空室尺寸 | Ф800×H900mm | Ф1100×H1200mm | Ф1350×H1250mm | Ф1600×H1250mm | Ф1900×H1250mm |
制膜種類 | 多功能金屬膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等 | ||||
電源類型 | 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源 | ||||
靶類型 | 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶 | ||||
真空室結(jié)構(gòu) | 立式門、立式單開門 | ||||
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統(tǒng)) | ||||
充氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀(1-4路) | ||||
極限真空 | 6×10-4pa(空載、凈室) | ||||
抽氣時(shí)間 | 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘 | ||||
工件旋轉(zhuǎn)方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無級(jí)調(diào)速 | ||||
控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化/觸摸屏+PLC | ||||
備注 | 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 |
設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時(shí)鐘,IPS手表和鐘表,的IP,手機(jī)外殼,五金,潔具,刀具,防摩擦的工具,模具和模具等,它可以制備TiN,TiCN涂層,氮化TIALN,TiNbu,TiCrN,氮化鋯,各類鉆石薄膜(DLC)
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