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實(shí)驗(yàn)型磁控濺射鍍膜機(jī)(直流/中頻/射頻/離子源)

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更新時(shí)間:2023-11-02 12:25:50瀏覽次數(shù):165次

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產(chǎn)品簡介

該設(shè)備是利用真空磁控濺射鍍膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力,該設(shè)備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩(wěn)定等特點(diǎn)。

詳細(xì)介紹

實(shí)驗(yàn)型磁控濺射鍍膜機(jī)(直流/中頻/射頻/離子源)利用真空磁控濺射鍍膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力,該設(shè)備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩(wěn)定等特點(diǎn)。適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品,玻璃等經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍(lán)、灰、黑等多種鮮艷顏色,具有提高產(chǎn)品檔次,外觀更顯華貴作用。

應(yīng)用領(lǐng)域:實(shí)驗(yàn)型磁控濺射鍍膜機(jī)(直流/中頻/射頻/離子源)實(shí)驗(yàn)用真空鍍膜機(jī)主要用于科研、教學(xué)、電子元件、及涂料生產(chǎn)等行業(yè)的表面表面鍍膜。

設(shè)備特點(diǎn):實(shí)驗(yàn)型磁控濺射鍍膜機(jī)(直流/中頻/射頻/離子源)具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點(diǎn)??蓪?shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝??蛇M(jìn)行手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)控制.有多種尺寸型號可供選擇。

設(shè)備型號 HCLB-500
真空室尺寸 Φ500×H600mm
制膜種類 半透明膜、金、銀、紅、藍(lán)、綠、灰、黑、七彩等多種顏色
電源類型 電阻加熱鎢絲蒸發(fā)變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源
真空室結(jié)構(gòu) 立式側(cè)門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng)
真空系統(tǒng) 分子泵+直聯(lián)旋片泵準(zhǔn)無油真空系統(tǒng)
極限真空 優(yōu)于5.0×10-5Pa(如需更高真空度可配進(jìn)口真空泵組)
基片臺尺寸 尺寸Φ120mm
基片烘烤溫度 室溫~500℃,可調(diào)可控(PID控溫)(可選擇水冷機(jī)基片臺)(更高烘烤溫度可定制)
基片運(yùn)動(dòng)方式 自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-20轉(zhuǎn)/分可調(diào)可控
膜厚不均勻性 ≤±(1.55.0%
濺射靶 磁控靶2支,預(yù)留2個(gè)靶位/2個(gè)電弧靶位
電源 直流電源/雙極脈沖中頻電源/射頻電源可選,數(shù)量可選
報(bào)警及保護(hù)系統(tǒng) 對泵、靶、電極等缺水,過流過壓,斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)
選購件 蒸發(fā)電弧+電弧電源、負(fù)偏壓電源、循環(huán)水機(jī)、膜厚控制系統(tǒng)、進(jìn)口部件等
抽氣時(shí)間 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘
工件旋轉(zhuǎn)方式 6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無級調(diào)速
控制方式 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化/觸摸屏+PLC
備注 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做

主要應(yīng)用于科研、教學(xué)、電子元件、及涂料生產(chǎn)等行業(yè)。

手機(jī)殼 表帶 眼鏡


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