分析方法能量色散X熒光分析方法 測(cè)量元素范圍鎂（Mg）到鈾（U）之間的元素均可測(cè)量 同時(shí)檢測(cè)元素數(shù)幾十種元素可同時(shí)分析 處理器和內(nèi)存CPU：667MHz,內(nèi)存：256M，擴(kuò)展存儲(chǔ)支持32G，標(biāo)配2G，可以海量存儲(chǔ)數(shù)據(jù) 含量范圍ppm～99.99% 檢測(cè)時(shí)間3-30秒 GPS、WIFI內(nèi)置系統(tǒng) 檢測(cè)對(duì)象固體、液體、粉末 探測(cè)器25mm2 0.3mil，SDD探測(cè)器 探測(cè)器分辨率可達(dá)139eV 激發(fā)源40KV/100uA-銀靶端窗一體化微型X光管及高壓電源 視頻系統(tǒng)高清晰攝像頭 顯示屏半透半反式液晶顯示觸摸屏，其分辨率是640*480 檢出限檢出限達(dá)ppm級(jí) 安全性自帶密碼管理員模式，數(shù)據(jù)可隨意保存 可充氣系統(tǒng)常壓充氦氣系統(tǒng) 數(shù)據(jù)傳輸數(shù)字多道技術(shù)，SPI數(shù)據(jù)傳輸，分析，高計(jì)數(shù)率 操作環(huán)境濕度≤90% 儀器外形尺寸234×306×82mm（L×H×W） 儀器重量1.9Kg（配備電池），1.6Kg（無(wú)電池）
手持X射線熒光光譜儀按照不同的應(yīng)用領(lǐng)域可分為：有害元素分析儀，合分析儀、土壤分析儀、貴金屬分析儀和礦石分析儀等一系列型，其中手持式能量色散礦石分析儀已廣泛應(yīng)用于各類(lèi)地質(zhì)礦樣多元素檢測(cè)和分析、礦渣精煉分析及考古研究中。檢測(cè)樣品包括從硫至鈾的所有自然礦石、礦渣、巖石、泥土、泥漿等，形態(tài)為固體、液體、粉末等。
對(duì)于金屬制造行業(yè)來(lái)說(shuō) ,質(zhì)量控制和非常重要。材料檢驗(yàn)是確保金屬制品使用合格材質(zhì)的關(guān)鍵。如 果使用不合格的金屬合金,會(huì)引起災(zāi)難性事故,給企業(yè) 帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)損失。手持合金成分分析儀是檢測(cè)金屬材料是否合格的關(guān)鍵性手段。有了手持式合金分析儀，質(zhì)量控制以及檢測(cè)人員可以 在無(wú)損的條件下,每天地檢測(cè)上千個(gè)金屬合金樣 品。即使是普通工作人員也有把握地將大量的 樣 品 測(cè) 出 完 整 而 準(zhǔn)確 的 結(jié) 果 。測(cè)試時(shí)間是1~2秒,無(wú)需制備樣品,從金屬細(xì)絲到成品焊點(diǎn),螺釘, 金屬板 ——所有這些樣品都可以被手持分析儀檢測(cè)。
技術(shù)參數(shù)： 重量： 1.6kg 尺寸： 30cm（L） x 10cm（W） x 28cm（H） 激發(fā)源： X射線管，Ag靶，40kV 檢測(cè)器： SI-PIN檢測(cè)器 操作系統(tǒng)：HP掌上電腦：Windows 5.0 Bruker 軟件 冷卻系統(tǒng)：Peltier 半導(dǎo)體冷卻系統(tǒng) 電源： 交、直流供電;充電鋰電池 工作條件：溫度：-20 ℃ ～ 55 ℃ 濕度：0～95%
手持式光譜儀在使用的時(shí)候，對(duì)于環(huán)境也是有一定的要求，不要在潮濕的環(huán)境下工作的，環(huán)境濕度0-95%之間為好，不能在太高溫下操作工作，這樣的理由是避免各類(lèi)磁場(chǎng)的干擾，如此儀器分析的時(shí)候才能檢測(cè)出更的精度。所以，大家在工作的時(shí)候要注意環(huán)境的適合度，很多時(shí)候儀器檢測(cè)不標(biāo)準(zhǔn)跟環(huán)境還是有很大程度上的關(guān)系。
手持式光譜儀設(shè)備維護(hù)與保養(yǎng)：
1.手持式光譜儀使用過(guò)程中應(yīng)輕拿輕放，防止內(nèi)部零件受損。
2.保持檢測(cè)口薄膜的清潔，檢測(cè)口薄膜被污染可能引起檢測(cè)誤差。檢測(cè)口薄膜破損繼續(xù)使用可能會(huì)造成手持式光譜儀的損壞。應(yīng)及時(shí)清潔或更換。
3.被檢測(cè)物表面的氧化層和污染物等要用砂輪機(jī)或金剛砂去除，以免造成測(cè)量結(jié)果不準(zhǔn)確，被檢測(cè)物表面凹凸不平、有毛刺時(shí)應(yīng)在檢測(cè)時(shí)注意，防止手持式光譜儀檢測(cè)口薄膜損壞。檢測(cè)鍍件時(shí)，要將電鍍層去除。
4.手持式光譜儀電池使用至10%時(shí)，應(yīng)更換電池，充電。
手持式光譜儀系統(tǒng)誤差的來(lái)源有： (1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。 (2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。 (3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過(guò)退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過(guò)程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。 (5)要系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
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