污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
射陽(yáng)三圣達(dá)探傷機(jī)有限公司
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射陽(yáng)三圣達(dá)探傷機(jī)有限公司
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更新時(shí)間：2023-08-18 18:22:01瀏覽次數(shù)：192次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線CDG－2000C型微機(jī)控制交流熒光磁粉探傷機(jī)CDG－2000C型是微機(jī)控制交流熒光磁粉探傷機(jī)根據(jù)磁化原理設(shè)計(jì)而成的，其周、縱向磁化采用交流電磁化，用于檢驗(yàn)鐵磁性材料制成的零件
CDG－2000C型微機(jī)控制交流熒光磁粉探傷機(jī)
CDG－2000C型是微機(jī)控制交流熒光磁粉探傷機(jī)根據(jù)磁化原理設(shè)計(jì)而成的，其周、縱向磁化采用交流電磁化，用于檢驗(yàn)鐵磁性材料制成的零件?？砂l(fā)現(xiàn)工件表面及近表面因鑄造、鍛壓、淬火、研磨、疲勞而產(chǎn)生的裂紋、夾渣等極細(xì)微的缺陷。本機(jī)采用微機(jī)控制復(fù)合磁化、衰減式自動(dòng)退磁，除上、下料、觀察外的所有探傷過(guò)程都由PLC控制完成。既可自動(dòng)循環(huán)操作,又可自動(dòng)單周操作和手動(dòng)單步操作，適用于各種軸類、銷類及相類工件的磁粉檢驗(yàn)。
主要技術(shù)性規(guī)范
3.1、 設(shè)備使用環(huán)境
設(shè)備周圍環(huán)境不應(yīng)有強(qiáng)電磁輻射的設(shè)備，如高頻淬火、變頻調(diào)壓等。
3.1.1 溫 度：－100C ~ +400C；
3.1.2 相對(duì)濕度：不大于850C；
3.1.3 海拔不超過(guò)后2000m。
3.2、 磁化電流及退磁
3.2.1 周向磁化：AC 0－2000A（有效值） 連續(xù)可調(diào)，帶斷電相位控制器；
3.2.2 縱向磁化：AC 0－20000AT（有效值） 連續(xù)可調(diào)，帶斷電相位控制器；
3.2.3退磁磁勢(shì)：AC 20000AT－0 連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)衰減(手動(dòng)時(shí)使用)；
3.2.4退磁效果：≤0.2mt;
3.3、 夾持裝置
3.3.1電極間距：0－700mm連續(xù)可調(diào)；
3.3.2夾緊力：供氣壓力為0.4MPa時(shí)320N可調(diào)。
氣源由用戶自行提供（0.4MPa－0.6MPa）；
3.3.3 夾緊行程： 50mm；
3.3.4 中心高：250mm
3.3.5 動(dòng)作控制：氣動(dòng)
3.4、 磁化方式： 周向磁化、縱向磁化、復(fù)合磁化；
3.5、 運(yùn)行方式： 自動(dòng)運(yùn)行、單周運(yùn)行、手動(dòng)運(yùn)行；
3.6、 PLC工藝時(shí)序：
人工上料――夾緊、噴液――噴液、磁化――磁化――退磁――松夾――觀察裂紋下料；
3.7、工作節(jié)拍：8~10s／件；
3.8、尾架移動(dòng)：手動(dòng)
3.9、紫外線強(qiáng)度：距工件表而380mm處不小于1000µw／com2
3.10探傷靈敏度： A型2﹟試片清晰顯示；
3.11、電 源：三相四線，AC 380V±5% 50Hz 約 120A；
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