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磁控濺射鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2024-02-11 13:35:50瀏覽次數(shù)：231次

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磁控濺射鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜設(shè)備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體的，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，無(wú)論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜和成膜，使膜層附著力、致密度、重復(fù)度及顏色一致性等特點(diǎn)?？梢藻兘饘倌?，還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機(jī)身，隱......

詳細(xì)介紹

  • 設(shè)備參數(shù)

    型號(hào)

    HY-1214

    HY-1416

    HY-1618

    真空室尺寸

    ?1200*1400mm

    ?1400*1600mm

    ?1600*1800mm

    真空室結(jié)構(gòu)

    立式單開(kāi)門(mén)

    鍍膜方式

    離子配偏壓技術(shù)

    極限真空

    8.0*10-4Pa (空載)

    抽氣時(shí)間

    空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘

    焊材類(lèi)型

    鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶，各種中頻靶、直流靶等

    鍍膜顏色

    半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍(lán)、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等

    控制方式

    全自動(dòng)，半自動(dòng)，手動(dòng) PLC觸摸屏控制

    特殊要求

    按客戶(hù)特殊工藝要求定制

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