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直流磁控濺射儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

直流磁控濺射儀，產(chǎn)品為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。

詳細(xì)介紹

直流磁控濺射儀，本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導(dǎo)電膜(金膜),儀器操作簡(jiǎn)單方便,配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器離子濺射儀的工作原理是在一個(gè)較低真空的腔體內(nèi)，將超過(guò)幾百伏特的電壓加載在負(fù)電極和正電極之間，使得輝光放電產(chǎn)生，使得正離子在電場(chǎng)的作用下對(duì)靶電極(負(fù)極)的轟擊加速，造成靶中原子濺射，使得一層簿膜在樣品上形成。10電子伏特為濺射原子的平均能量，因此會(huì)有非常大的熱量產(chǎn)生，為了使樣品不被灼傷，需要對(duì)被鍍材料特性以及是否需要采取特殊的防護(hù)方法格外注意。

。

直流磁控濺射儀技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口