污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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產(chǎn)品型號(hào)JW-ROE-01
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地深圳市
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更新時(shí)間：2024-05-22 15:05:19瀏覽次數(shù)：221次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 產(chǎn)水量 | 0.5-100 |
|---|---|---|---|
| 電導(dǎo)率 | 0.055μs/cm | 水質(zhì)要求 | 市政自來(lái)水 |
| 脫鹽率 | 99.5% | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,光電,LED,線路板 |
半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體(semiconductor)，指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是較常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下,通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng),利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜).淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留,這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化,提純,濃縮或精制的目的。
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
一、產(chǎn)品總述：
EDI超純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置，根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來(lái)制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)。系統(tǒng)采用RO+EDI純化水工藝，產(chǎn)水水質(zhì)滿足客戶的生產(chǎn)用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統(tǒng)整體人性化設(shè)計(jì)，模塊化安裝，占地面積小，操作簡(jiǎn)單方便，運(yùn)行穩(wěn)定，節(jié)能。
相關(guān)參數(shù)：
進(jìn)水源：反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計(jì))
顆粒： ≤1μ?m
有機(jī)物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測(cè)不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進(jìn)水壓力： 0.2—0.4MPa
產(chǎn)水壓力： 產(chǎn)水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度
我司安排現(xiàn)場(chǎng)安裝、調(diào)試、培訓(xùn)以及定期保養(yǎng)。更多產(chǎn)品型號(hào)及價(jià)格請(qǐng)致電咨詢。
二、制水工藝（演示）：
三、設(shè)備圖片預(yù)覽：
四、超純水設(shè)備應(yīng)用范圍
1.化妝品行業(yè)：
護(hù)膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。
2.食品、飲料、純凈水行業(yè)：
食品生產(chǎn)用水和飲料生產(chǎn)用水以及純凈水的生產(chǎn)
3.電子工業(yè)：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業(yè)：
蓄電池生產(chǎn)用純水、鋰電池生產(chǎn)用純水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業(yè)：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業(yè)：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。
五、不同出水品質(zhì)的工藝和材質(zhì)選項(xiàng)
六、操作系統(tǒng)顯示界面（下為演示界面）：
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