產品特點：應用領域：HW-Touch紅外消解器采用的紅外加熱技術和縱向梯度升溫技術（），具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，HW-Touch石墨消解器同時可用于微波消解的預處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產品。

詳細介紹

HW-Touch石墨紅外消解板的應用領域：

HW-Touch石墨紅外消解板具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，同時可用于微波消解的預處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產品。

的儀器特點：

1)加熱均勻：加熱體選用導熱性能*的耐高溫高純石墨，保證消解面板溫度均勻，中心點與邊緣間溫差??；消解多個樣品時能保證各個樣品在相同的反應溫度和條件下進行批量處理，克服了傳統(tǒng)的平板電熱板的種種缺陷。

2)耐腐蝕：高純石墨表面涂有特氟隆涂層，易清潔且耐腐蝕，可以在強酸強堿等腐蝕環(huán)境中放心使用。

3)控制精確：PID溫控系統(tǒng)，操作簡單方便，性能優(yōu)良，經久耐用。控溫精度±1.0℃，加熱速率可調，實現程序升溫并控制加熱保持時間，完成加熱程序后自動停止加熱。

4)高效：有效加熱面積為：470×314mm，可進行樣品批次處理，提高工作效率。

5)應用范圍廣泛：可用于實驗室常規(guī)加熱反應；可精確控制樣品消解；可為微波消解后的樣品快速趕酸，無需轉移至其他同功能容器中即可定容。

6)高溫：采用紅外加熱方式，溫度可達到460℃，特殊高溫特氟隆鍍層高純石墨作為加熱材質。

的技術參數：

型號	HW-Touch
加熱方式	紅外加熱
加熱材料	高溫高純石墨(噴涂特氟龍涂層)
有效加熱面積	470×314 mm
控制方式	PID
工步數	30段
控溫范圍	RT-460℃
控溫精度	±0.1℃
保護功能	過熱保護、加熱保持時間可控
zui大功率	3500W
電源要求	AC 220V/50Hz/10A
設備尺寸 W×D×H	770×520×200 mm
標準配置	高硼硅玻璃消解瓶30套（含回流裝置）；消解瓶架一套；特氟龍消解杯30套。